发明公开
- 专利标题： 阵列基板的制作方法、阵列基板和显示装置
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申请号： CN202010740589.4申请日： 2020-07-28
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公开(公告)号： CN111883543A公开(公告)日： 2020-11-03
- 发明人: 夏玉明 , 卓恩宗 , 叶利丹
- 申请人： 北海惠科光电技术有限公司 , 惠科股份有限公司
- 申请人地址： 广西壮族自治区北海市工业园区北海大道东延线336号广西惠科科技有限公司二期A座4楼A-430室
- 专利权人： 北海惠科光电技术有限公司,惠科股份有限公司
- 当前专利权人： 北海惠科光电技术有限公司,惠科股份有限公司
- 当前专利权人地址： 广西壮族自治区北海市工业园区北海大道东延线336号广西惠科科技有限公司二期A座4楼A-430室
- 代理机构： 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所
- 代理商 晏波
- 主分类号： H01L27/12
- IPC分类号： H01L27/12 ; H01L21/77 ; G02F1/1362 ; G02F1/1368
摘要：
本发明公开了一种阵列基板的制作方法，所述阵列基板的制作方法包括以下步骤：提供一基板；在所述基板上沉淀和图案化形成栅极层；在所述覆盖栅极层的基板上采用原子沉积法沉积保护层；在所述保护层上沉淀和图案化形成非晶硅层和欧姆接触层。本发明还公开了一种阵列基板和显示装置。本发明均匀的保护层降低了对薄膜晶体管场效应迁移率的影响，使得产品的显示更加稳定，提高了显示效果。
公开/授权文献
- CN111883543B 阵列基板的制作方法、阵列基板和显示装置 公开/授权日：2022-09-27
IPC分类:
