- 专利标题: 用于在加工等离子体时控制离子能量分布的装置和方法
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申请号: CN201980021613.4申请日: 2019-04-08
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公开(公告)号: CN111937114B公开(公告)日: 2024-09-17
- 发明人: 吉田祐介 , 谢尔盖·沃罗宁 , 阿洛科·兰詹 , 大卫·库穆 , 斯科特·怀特
- 申请人: 东京毅力科创株式会社 , 万机仪器公司
- 申请人地址: 日本东京都;
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社,万机仪器公司
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社,万机仪器公司
- 当前专利权人地址: 日本东京都;
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 陈炜; 李德山
- 国际申请: PCT/US2019/026261 2019.04.08
- 国际公布: WO2019/199635 EN 2019.10.17
- 进入国家日期: 2020-09-23
- 主分类号: H01J37/32
- IPC分类号: H01J37/32 ; H01L21/3065
摘要:
在等离子体加工中,多个谐波频率分量用于等离子体激发。控制不同频率分量之间的相对幅度和/或相移,以便提供期望的离子能量等离子体属性。可以在不进行直接测量和/或手动离子能量测量的情况下控制相对幅度和/或相移。而是,可以通过监测该等离子体装置内的诸如例如阻抗水平等一个或多个电特性、该射频(RF)发生器中的电信号、匹配网络中的电信号、以及该等离子体加工装置的其他电路中的电信号来动态地控制该等离子体内的离子能量。可以在等离子体工艺期间动态地实现对该离子能量的监测和控制,以便维持期望的离子能量分布。
公开/授权文献
- CN111937114A 用于在加工等离子体时控制离子能量分布的装置和方法 公开/授权日:2020-11-13