- 专利标题: 离子植入系统以及去除其的射束线构件上沉积物的方法
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申请号: CN202011058388.2申请日: 2016-06-02
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公开(公告)号: CN112185785B公开(公告)日: 2024-01-23
- 发明人: 凯文·安葛林 , 威廉·戴维斯·李 , 彼得·库鲁尼西 , 里安·道尼 , 杰·T·舒尔 , 亚历山大·利坎斯奇 , 威廉·M·贺伯
- 申请人: 瓦里安半导体设备公司
- 申请人地址: 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡都利路35号(邮递区号:01930)
- 专利权人: 瓦里安半导体设备公司
- 当前专利权人: 瓦里安半导体设备公司
- 当前专利权人地址: 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡都利路35号(邮递区号:01930)
- 代理机构: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 杨贝贝; 臧建明
- 优先权: 62/174,906 2015.06.12 US
- 主分类号: H01J37/317
- IPC分类号: H01J37/317 ; H01L21/67
摘要:
本文提供离子植入系统以及去除离子植入系统的射束线构件上沉积物的方法。所述离子植入系统,包括:离子源,被配置为形成离子束;射束线构件;以及气体源,被配置为向所述射束线构件供应气体,其中所述气体源被配置成通过沉积物与所述气体的反应来刻蚀沉积在所述射束线构件的表面上的所述沉积物。所述去除离子植入系统的射束线构件上沉积物的方法,所述去除离子植入系统的射束线构件上沉积物的方法包括:在对所述射束线构件进行离子轰击期间通过离子束向与所述射束线构件相关联的一或多个区域供应所述气体,其中所述离子轰击加热所述射束线构件的表面,以辅助所述气体与所述射束线构件的所述表面上的所述沉积物之间的化学反应。
公开/授权文献
- CN112185785A 离子植入系统以及去除其的射束线构件上沉积物的方法 公开/授权日:2021-01-05