发明公开
- 专利标题： 高深宽比结构的有效率的清洁和蚀刻
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申请号： CN201980039739.4申请日： 2019-06-07
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公开(公告)号： CN112335016A公开(公告)日： 2021-02-05
- 发明人: 朱济 , 马克·卡瓦古奇 , 南森·马塞尔怀特
- 申请人： 朗姆研究公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海胜康律师事务所
- 代理商 李献忠; 张静
- 优先权： 62/684,415 2018.06.13 US
- 国际申请： PCT/US2019/036015 2019.06.07
- 国际公布： WO2019/241060 EN 2019.12.19
- 进入国家日期： 2020-12-14
- 主分类号： H01L21/02
- IPC分类号： H01L21/02 ; H01L21/324 ; H01L21/306
摘要：
一种处理衬底的方法包含：将衬底设置在处理室中。将汽化溶剂和包含所述溶剂的气体混合物中的至少一者供应至所述处理室，以在所述衬底的暴露表面上形成所述溶剂的保形液体层。将所述汽化溶剂及所述气体混合物中的所述至少一者从所述处理室中移除。将包含卤素物质的反应性气体供应至所述处理室。所述保形液体层吸附所述反应性气体以形成反应性液体层，所述反应性液体层对所述衬底的所述暴露表面进行蚀刻。
IPC分类:
