本发明涉及传送单元和包括该传送单元的基板处理装置。一种用于处理基板的装置包括索引模块和处理基板的处理模块。索引模块包括：装载端口，载体被装载在所述装载端口上，所述载体具有接收在其中的多个基板；和传送框架，其设置在所述处理模块与所述装载端口之间，并在装载在所述装载端口上的所述载体与所述处理模块之间传送所述基板。所述处理模块包括：一个或多个工艺腔室；和传送腔室，其将所述基板传送到所述工艺腔室。所述传送腔室包括：壳体，其具有传送空间，在所述传送空间中传送所述基板；传送机械手，其设置在所述壳体中并在所述工艺腔室之间传送所述基板；和静电垫，其设置在所述传送空间中，并静电地吸引所述壳体中的颗粒。