发明授权
- 专利标题： 一种光刻胶去胶液及其制备方法和应用
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申请号： CN202011486530.3申请日： 2020-12-16
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公开(公告)号： CN112540515B公开(公告)日： 2023-11-21
- 发明人: 梁豹 , 方磊 , 杜冰 , 刘文永 , 邱柱 , 刘伟 , 张茂 , 张兵 , 赵建龙 , 向文胜 , 朱坤 , 陆兰
- 申请人： 江苏艾森半导体材料股份有限公司
- 申请人地址： 江苏省苏州市昆山市千灯镇黄浦江路1647号
- 专利权人： 江苏艾森半导体材料股份有限公司
- 当前专利权人： 江苏艾森半导体材料股份有限公司
- 当前专利权人地址： 江苏省苏州市昆山市千灯镇黄浦江路1647号
- 代理机构： 北京品源专利代理有限公司
- 代理商 巩克栋
- 主分类号： G03F7/32
- IPC分类号： G03F7/32
公开/授权文献
- CN112540515A 一种光刻胶去胶液及其制备方法和应用 公开/授权日：2021-03-23
IPC分类:
