发明公开
CN112563376A 一种二极管外延结构
无效 - 撤回
- 专利标题: 一种二极管外延结构
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申请号: CN202011459828.5申请日: 2020-12-11
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公开(公告)号: CN112563376A公开(公告)日: 2021-03-26
- 发明人: 夏黎明 , 李青民 , 任占强 , 李波 , 李会利 , 杜美本
- 申请人: 西安立芯光电科技有限公司
- 申请人地址: 陕西省西安市高新区丈八六路56号2号楼1层
- 专利权人: 西安立芯光电科技有限公司
- 当前专利权人: 西安立芯光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市高新区丈八六路56号2号楼1层
- 代理机构: 西安智邦专利商标代理有限公司
- 代理商 郑丽红
- 主分类号: H01L33/06
- IPC分类号: H01L33/06 ; H01L33/14 ; H01L33/32 ; H01L33/00
摘要:
本发明提供一种二极管外延结构,解决现有二极管外延结构存在波导折射率较低、光损耗较大的问题。该二极管外延结构包括由下至上依次设置的N型GaAs衬底层、N型GaAs缓冲层、N型AlXGa(1‑X)As下限值层、AlXGa(1‑X)As波导层、GaYIn(1‑Y)As量子阱层、GaAs量子垒层、GaYIn(1‑Y)As量子阱层、GaAs量子垒层、AlXGa(1‑X)As波导层、P型AlXGa(1‑X)As下限制层、P型AlXGa(1‑X)As下限制层、P型AlXGa(1‑X)As下限制层、P型GaAs电流扩展层和P型GaAs电极接触层。该结构降低了波导势垒,增加了波导的折射率,增强波导对光的束缚性,从而提高了器件的发光效率。
IPC分类: