发明公开
- 专利标题： 一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示面板
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申请号： CN201910960432.X申请日： 2019-10-10
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公开(公告)号： CN112736087A公开(公告)日： 2021-04-30
- 发明人: 高宇鹏 , 袁广才 , 关峰 , 王治 , 杜建华 , 强朝辉 , 李超
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构： 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- 代理商 张佳
- 主分类号： H01L27/12
- IPC分类号： H01L27/12 ; H01L21/77 ; H01L21/82
摘要：
本发明公开了一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示面板，该阵列基板的制作方法通过对在制作氧化物薄膜晶体管的半导体层形成的铟的氧化物薄膜进行还原，获得微晶硅薄膜晶体管的半导体层的诱导金属铟，通过金属铟诱导多晶硅的方式形成微晶硅半导体层，并且在形成微晶硅半导体层之后，两类晶体管相同的功能的膜层可以通过同一道掩膜版进行制作，极大的降低了掩膜版使用数量。
公开/授权文献
- CN112736087B 一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示面板 公开/授权日：2024-03-05
IPC分类:
