Invention Grant
- Patent Title: Ga2O3基共振隧穿二极管及其制备方法
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Application No.: CN202110354520.2Application Date: 2021-04-01
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Publication No.: CN113193037BPublication Date: 2022-01-28
- Inventor: 王新强 , 魏嘉琪 , 沈波 , 荣新 , 王丁 , 张宝庆 , 刘放 , 杨景
- Applicant: 北京大学
- Applicant Address: 北京市海淀区颐和园路5号
- Assignee: 北京大学
- Current Assignee: 北京大学
- Current Assignee Address: 北京市海淀区颐和园路5号
- Agency: 北京万象新悦知识产权代理有限公司
- Agent 王岩
- Main IPC: H01L29/06
- IPC: H01L29/06 ; H01L29/24 ; H01L29/88 ; H01L21/34

Abstract:
本发明公开了一种Ga2O3基共振隧穿二极管及其制备方法。本发明采用Ga2O3有源区双势垒结构,集电极势垒层的Al组分大于发射极势垒层的Al组分,使得具有超大的禁带宽度和击穿场强,在更高电压下会出现更多微分负阻现象,器件更适合高功率工作并提高了峰谷电流比值;利用Ga2O3材料具有无自发极化的特点,极大弱化发射极产生电荷积累区和集电极产生电荷耗尽区,提高器件的稳定性;采用(AlxGa1‑x)2O3/Ga2O3双势垒结构导带能量偏移大,有效减小越过势垒的热电子发射电流等非隧穿电流机制,提高器件的输出功率。
Public/Granted literature
- CN113193037A Ga2O3基共振隧穿二极管及其制备方法 Public/Granted day:2021-07-30
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