- 专利标题： 极紫外光刻用工艺液体及使用其的图案形成方法
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申请号： CN201980081913.1申请日： 2019-11-11
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公开(公告)号： CN113196178B公开(公告)日： 2024-07-30
- 发明人: 李秀珍 , 金起洪 , 李昇勋 , 李昇炫
- 申请人： 荣昌化学制品株式会社
- 申请人地址： 韩国庆尚北道
- 专利权人： 荣昌化学制品株式会社
- 当前专利权人： 荣昌化学制品株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国庆尚北道
- 代理机构： 北京青松知识产权代理事务所
- 代理商 郑青松
- 国际申请： PCT/KR2019/015262 2019.11.11
- 国际公布： WO2020/138710 KO 2020.07.02
- 进入国家日期： 2021-06-10
- 主分类号： G03F7/32
- IPC分类号： G03F7/32
摘要：
本申请发明涉及一种用于对使用于极紫外光曝光光源的包括聚羟基苯乙烯(polyhydroxystyrene)的光致抗蚀剂图案进行坍塌程度改善及缺陷数减少的工艺液体，更详细地，涉及一种用于光致抗蚀剂图案的坍塌程度改善及缺陷数减少的工艺液体组合物及使用其的图案形成方法，其中，所述工艺液体组合物包括：0.0001至1重量％的碱性物质，0.0001至1重量％的阴离子表面活性剂，及98至99.9998重量％的水。
公开/授权文献
- CN113196178A 极紫外光刻用工艺液体及使用其的图案形成方法 公开/授权日：2021-07-30
IPC分类:
