Invention Grant
- Patent Title: 基板、选择性膜沉积方法、有机物的沉积膜及有机物
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Application No.: CN202080008453.2Application Date: 2020-01-07
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Publication No.: CN113272471BPublication Date: 2023-07-18
- Inventor: 新免益隆 , 冈田卓也 , 山本纯基 , 滩野亮 , 宫崎达夫
- Applicant: 中央硝子株式会社
- Applicant Address: 日本山口县
- Assignee: 中央硝子株式会社
- Current Assignee: 中央硝子株式会社
- Current Assignee Address: 日本山口县
- Agency: 北京林达刘知识产权代理事务所
- Agent 刘新宇; 李茂家
- International Application: PCT/JP2020/000171 2020.01.07
- International Announcement: WO2020/145269 JA 2020.07.16
- Date entered country: 2021-07-08
- Main IPC: C23C16/04
- IPC: C23C16/04 ; C23C28/00 ; H01L21/285 ; H01L21/312
Abstract:
本公开的实施方式的选择性膜沉积方法的特征在于，对于具有包含金属及金属氧化物中的至少1种的第一表面区域和包含非金属无机材料的第二表面区域这两者均露出的结构的基板，使通式(1)所示的有机物的膜选择性地沉积于第一表面区域而非第二表面区域。(通式(1)中，N为氮原子。R1为碳数1～30的任选具有杂原子、卤原子的烃基，R2、R3、R4及R5各自独立地为氢原子或碳数1～10的任选具有杂原子、卤原子的烃基。其中，该烃基的碳数为3以上时，也包括支链或环状结构的烃基。)
Public/Granted literature
- CN113272471A 基板、选择性膜沉积方法、有机物的沉积膜及有机物 Public/Granted day:2021-08-17
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IPC分类:
