发明公开
- 专利标题: 阵列基板、其制备方法及背光模组
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申请号: CN202080000002.4申请日: 2020-01-03
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公开(公告)号: CN113348411A公开(公告)日: 2021-09-03
- 发明人: 曹占锋 , 刘英伟 , 王珂 , 张国才 , 汪建国 , 梁志伟 , 李海旭 , 狄沐昕
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- 代理商 刘源
- 国际申请: PCT/CN2020/070325 2020.01.03
- 国际公布: WO2021/134794 ZH 2021.07.08
- 进入国家日期: 2020-01-07
- 主分类号: G02F1/13357
- IPC分类号: G02F1/13357 ; C25D5/34 ; C25D5/02
摘要:
一种阵列基板、其制备方法及背光模组,由于在种子层(11)的图形上电镀第一金属层(15)之前还包括:在衬底基板(10)形成有引线电极(12)一侧形成与引线电极(12)电连接的补偿电极走线(13)的图形,其中,补偿电极走线(13)至少位于布线区域(AA)的第二侧,第一侧和第二侧位于布线区域(AA)的不同侧。在电镀时,引线电极(12)接电源阴极,由于补偿电极走线(13)与引线电极(12)电连接,利用补偿电极走线(13)使产生电场线的电镀阴极面积增加,增加布线区域(AA)边缘的均匀电场线,以将电镀的边缘区域外扩至布线区域(AA)以外,从而改善布线区域(AA)内电场线分布,提高电镀均匀性。
IPC分类: