发明公开
CN113793794A 等离子体处理装置
审中-实审
- 专利标题: 等离子体处理装置
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申请号: CN202111085961.3申请日: 2018-09-14
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公开(公告)号: CN113793794A公开(公告)日: 2021-12-14
- 发明人: 松山昇一郎 , 佐藤大树 , 佐佐木康晴 , 西岛贵史 , 朴镇永
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京尚诚知识产权代理有限公司
- 代理商 龙淳; 何中文
- 优先权: 2017-177398 20170915 JP
- 主分类号: H01J37/32
- IPC分类号: H01J37/32 ; H01L21/683
摘要:
本发明提供一种等离子体处理装置,其在进行偏置电功率的大小的切换的等离子体处理中,抑制形成在被处理基片上的倾斜。等离子体处理装置包括:基座,能够被施加在对被处理基片进行等离子体处理期间中能够切换大小的偏置电功率;静电卡盘,其设置在基座上,能够在中央部载置被处理基片,在外周部以包围被处理基片的方式载置聚焦环;和电介质层,其配置在静电卡盘的外周部与基座或聚焦环之间,具有使静电卡盘的外周部的静电电容与静电卡盘的中央部的静电电容之差减少的静电电容。