- 专利标题: 一种倒置3μm~5μm nBn型InAsSb红外探测器材料及其制备方法
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申请号: CN202111350766.9申请日: 2021-11-15
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公开(公告)号: CN114093976A公开(公告)日: 2022-02-25
- 发明人: 陈冬琼 , 邓功荣 , 杨文运 , 宋欣波 , 何燕 , 赵宇鹏 , 尚发兰 , 戴欣冉 , 黎秉哲 , 范明国 , 龚晓霞 , 太云见 , 黄晖
- 申请人: 昆明物理研究所
- 申请人地址: 云南省昆明市教场东路31号
- 专利权人: 昆明物理研究所
- 当前专利权人: 昆明物理研究所
- 当前专利权人地址: 云南省昆明市教场东路31号
- 代理机构: 北京理工大学专利中心
- 代理商 周蜜
- 主分类号: H01L31/109
- IPC分类号: H01L31/109 ; H01L31/0304 ; H01L31/18
摘要:
本发明涉及一种倒置3μm~5μm nBn型InAsSb红外探测器材料及其制备方法,属于光电子材料与器件技术领域。所述红外探测器材料的结构为从上向下依次设置的顶电极接触层、吸收层、势垒层、底电极接触层、缓冲层和衬底;通过分子术外延法制备得到。通过对结构和材料组分进行改进设计,采用倒置延伸波长的nBn结构,同时调整Sb组分,将采用所述材料制备的红外探测器的响应波长延伸至5μm,同时,能在不增大红外探测器暗电流的情况下减小横向扩散电流,进一步提升了红外探测器的性能。
IPC分类: