- 专利标题： 一种低压氧等离子清洗有机污染物的工艺时长计算方法
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申请号： CN202111385902.8申请日： 2021-11-22
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公开(公告)号： CN114112954B公开(公告)日： 2024-04-19
- 发明人: 刘昊 , 杨敏 , 李玉海 , 蒋一岚 , 牛龙飞 , 苗心向 , 吕海兵 , 袁晓东
- 申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 申请人地址： 四川省绵阳市科学城绵山路64号
- 专利权人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 当前专利权人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 当前专利权人地址： 四川省绵阳市科学城绵山路64号
- 代理机构： 绵阳远卓弘睿知识产权代理事务所
- 代理商 张忠庆
- 主分类号： G01N21/31
- IPC分类号： G01N21/31
摘要：
本发明的目的是提供一种低压氧等离子体清洗多孔增透膜内有机污染物的工艺时长计算方法，利用低压氧等离子体清洗性能与光谱激发谱线强度建立的先验数据库，根据拟处理的等离子体状态与目标污染物空间浓度计算得到达到指定状态所需的清洗时长，可以用于低压氧等离子体处理多孔增透膜内特定有机污染物的工艺控制，从而实现氧等离子体清洗多孔增透膜内有机污染物所需工艺时长的快速计算，减少由于过量清洗引起的光学元件表面的金属溅射粒子累积。
公开/授权文献
- CN114112954A 一种低压氧等离子清洗有机污染物的工艺时长计算方法 公开/授权日：2022-03-01
IPC分类:
