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公开(公告)号：CN118566530A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410316936.9
申请日：2024-03-20
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明属于微纳光纤传感技术领域，具体涉及一种微纳光纤风速传感器及其制备方法和应用。本发明提供了一种微纳光纤风速传感器，包括微纳光纤、固定于微纳光纤表面的风速敏感层和固定于风速敏感层表面的树脂封装层；所述树脂封装层的中心设置有敏感窗口，敏感窗口处裸漏出风速敏感层；所述风速敏感层的组成包括SiO2，Yb2O3和Er2O3。本发明提供的传感器体积小，空间适应性好。且本发明采用风速敏感层(组成包括SiO2，Yb2O3和Er2O3)结合光纤结构，对环境风速具有良好的响应性能。
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公开(公告)号：CN118308723A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410313605.X
申请日：2024-03-19
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种在光学元件表面制备定向微纳颗粒的装置，包括密封腔室，所述密封腔室的两侧分别贯通连接有熔石英玻璃，调节机构，其设置在所述密封腔室内，所述调节机构位于两个所述熔石英玻璃之间，且所述调节机构上设置有光学元件；支撑杆，其对应调节机构设置在所述密封腔室内，且所述支撑杆上设置有喷溅件；激光器，其位于所述密封腔室外，且所述激光器的发射端对应所述光学元件、喷溅件设置。本发明，利用激光辐照光学元件和待研究的喷溅材料，可以使得光学元件表面沉积产生微纳颗粒，并通过对光学元件进行调节，即可获得全口径覆盖和不同角度入射喷溅的微纳颗粒，实现了光学元件表面受到污染的真实还原。
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公开(公告)号：CN114112954B
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202111385902.8
申请日：2021-11-22
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01N21/31
摘要： 本发明的目的是提供一种低压氧等离子体清洗多孔增透膜内有机污染物的工艺时长计算方法，利用低压氧等离子体清洗性能与光谱激发谱线强度建立的先验数据库，根据拟处理的等离子体状态与目标污染物空间浓度计算得到达到指定状态所需的清洗时长，可以用于低压氧等离子体处理多孔增透膜内特定有机污染物的工艺控制，从而实现氧等离子体清洗多孔增透膜内有机污染物所需工艺时长的快速计算，减少由于过量清洗引起的光学元件表面的金属溅射粒子累积。
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公开(公告)号：CN115894090B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202211439213.5
申请日：2022-11-17
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： B81C1/00 , B81C3/00 , B23K26/362 , B23K26/364 , B23K26/00 , C04B41/91
摘要： 本发明公开了一种在脆硬材料表面制备高增透亚波长结构的方法，包括：制备待加工脆硬材料样品；对硬脆材料样品表面进行辐照改性，对硬脆材料样品表面进行扫描，对目标改性区域进行活化；在无掩模情况下，利用离子刻蚀技术对活化区域进行精准去除，获得亚波长增透结构；超声清洗，洁净空气吹干。本发明使用飞秒激光对硬脆材料表面进行精确辐照，使材料内部的结晶态发生转变，赋予材料表面一定的活性，在无掩模情况下利用离子刻蚀技术对改性区域进行精准去除，在硬脆材料表面获得亚波长增透结构，不但消除了飞秒激光加工过程中碎屑飞溅的影响，同时解决了离子刻蚀手段在面临超高硬度、低化学活性晶体材料时普遍存在的刻蚀效率低下的问题。
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公开(公告)号：CN107247037B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN201710631796.4
申请日：2017-07-28
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01N21/45
摘要： 本发明公开了一种基于单模‑多模‑无芯光纤结构的分子态有机污染物监测传感器，包括：单模光纤；多模光纤，其与单模光纤的熔接；表面包覆溶胶‑凝胶二氧化硅薄膜的无芯光纤，其一端与多模光纤的输入端偏心熔接；无芯光纤与多模光纤偏心熔接后的不重叠位置处包覆第一金属膜层，其另一端面附着第二金属膜层。将在线监测传感器置于被监测环境中，当分子态有机污染物浓度发生变化，会导致表面薄膜折射率发生变化，从而引起整个波导结构有效折射率发生变化导致谐振条件发生变化，使马赫‑泽德混合干涉中一干涉臂光程发生变化导致整个波导干涉条件发生变化，最后光谱仪监测输出信号波长，通过对输出信号进行处理即可反推外部环境分子态有机污染物浓度。
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公开(公告)号：CN112964409A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN202110175452.3
申请日：2021-02-06
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开一种大口径光学元件真空应力测试仪，用于大口径光学元件在真空条件下的应力测量。本发明的大口径光学元件真空应力测试仪，采用不锈钢真空腔，连接分子泵实现高真空；在真空腔的底部铺设LED光源，光源上方分别放置偏振片和匀光片。真空腔室外侧布置支架，支架上布置二维导轨；导轨之上安装探测器，探测器内部自下而上分别布置四分之一波片和偏振片。本发明的大口径光学元件真空应力测试仪适用于大口径光学元件真空状态下的应力分布，具有结构简单，操作方便的优点。
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公开(公告)号：CN105948519B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201610306938.5
申请日：2016-05-11
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： C03C15/00
摘要： 本发明提供了一种熔石英激光损伤的无热残余应力修复方法，该方法通过截取激光器输出脉冲的峰值段，获得高峰值功率矩形激光脉冲；聚焦高峰值功率矩形激光脉冲，获得甚高峰值功率密度单激光脉冲；使用单激光脉冲瞬间气化剥离熔石英基底上的单点的损伤部位材料；控制单激光脉冲间隔，使基底充分冷却；利用单激光脉冲重复进行气化剥离，直至去除损伤部位全部材料。本发明方法有效控制了熔石英基底发生高温结构弛豫，获得了无热残余应力的熔石英损伤修复，提升了熔石英光学元件损伤点的抗损伤能力，抑制了熔石英光学元件表面损伤及其增长，延长了熔石英光学元件使用寿命，具有修复时间短、过程简洁高效、工艺稳定性好、可控性强、重复性高的优点。
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公开(公告)号：CN109092730A
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201811243262.5
申请日：2018-10-24
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置及方法，包括：光学元件表面颗粒物在线检测系统，其暗场成像系统位于光学元件的上方且垂直与光学元件；用于对光学元件进行洁净处理的洁净处理装置，其通过水平运动机构和竖直伸缩机构实现对擦拭机构的位置移动，进而可实现对光学元件的表面擦拭；上位机，其与光学元件表面颗粒物在线检测系统和洁净处理机构通信连接。本发明的装置及方法可用于对光学元件的表面进行实时在线监测，同时根据暗场监测的结果来进行非常及时的洁净处理，操作简单便捷，也避免了人工作业带来二次污染的风险，从而减少了光学元件的损伤，有效保障了高功率固体激光装置的稳定运行。
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公开(公告)号：CN106932844B
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201710354588.4
申请日：2017-05-19
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02B3/00
摘要： 本发明专利公开了一种熔石英微凹柱透镜阵列的制备方法，包括：从二氧化碳激光器获得连续稳定的二氧化碳激光；对二氧化碳激光进行聚焦；将清洗后的熔石英样片放置在聚焦的二氧化碳激光的焦点位置；采用振镜系统扫描聚焦后的二氧化碳激光辐照熔石英样片表面；然后放入氢氟酸溶液进行湿法刻蚀；对湿法刻蚀形成的熔石英微凹柱透镜阵列进行喷淋和超声清洗，得到熔石英微凹柱透镜阵列。本发明利用功率恒定的连续二氧化碳激光进行扫描辐照；简洁高效地直接在熔石英表面实现了一维的柱透镜阵列，例如平行微凹柱透镜阵列、正交微凹柱透镜阵列和螺旋微凹柱透镜阵列的制造，并且制造的微凹柱透镜阵列无实焦点，尤其适用于高功率光束整形等应用。
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公开(公告)号：CN106964893B
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201710339726.1
申请日：2017-05-15
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： B23K26/00 , B23K26/064 , B23K26/70
摘要： 本发明公开了一种用于光学元件的激光预处理装置及处理方法，包括：用于发出激光的激光光源；依次设置在激光传输方向上的分光劈板、反射镜、光束整形系统和放置待处理光学元件的电动平移台；其中，激光光源发出的激光经分光劈板之后经反射镜传输至光束整形系统，光束整形系统对激光进行光束整形，将本身高斯分布的激光光斑整形成平顶均匀分布的方光斑，最后辐照到光学元件表面来对光学元件进行激光预处理。通过本发明的激光预处理装置，形成平顶聚焦的均匀方形激光光斑使整个预处理过程辐照的能量密度均匀，并且能够通过倍率切换结构来轻松调节光斑的尺寸，进而调节到达光学元件表面激光能量密度的目的。
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