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公开(公告)号：CN118455193A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410578668.8
申请日：2024-05-10
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种用于光学元件表面颗粒的去除装置，包括吸附系统、显微系统以及位置调节系统。本发明还提供一种用于光学元件表面颗粒的去除方法，位置调节系统带动吸附系统移动至靠近光学元件表面的微米颗粒处；声波发生器发出的声波振动能够减弱光学元件对表面微米级颗粒的吸附力，并使光学元件表面的微米颗粒聚集，在负压吸附器的负压作用下，聚集的颗粒由负压吸附器的吸附口被吸入负压吸附器的内腔，并由吸附管排出；利用显微系统观测光学元件表面的颗粒是否被去除。本发明采用非接触无损处理方式对光学元件表面微米颗粒进行去除，处理效果好，无二次污染产生，且对环境空间无要求，便携性好，处理效率高。
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公开(公告)号：CN107179516B
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN201710631839.9
申请日：2017-07-28
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01R33/032
摘要： 本发明公开了一种基于单模‑多模‑无芯光纤结构的磁场强度检测传感器，包括：单模光纤；多模光纤，其输入端与单模光纤的输出端熔接；无芯光纤，其一端与多模光纤的输出端偏心熔接；无芯光纤与多模光纤偏心熔接后的不重叠位置处包覆第一金属膜层；无芯光纤的另一端面附着第二金属膜层；无芯光纤的表面包覆超磁致伸缩材料层。将磁场强度检测传感器置于磁场中，磁场强度发生变化，会导致有超磁致伸缩材料薄膜发生形变及波导折射率发生变化，从而引起无芯光纤纵向长度产生微小形变及谐振条件发生变化，使马赫‑泽德混合干涉中一干涉臂光程发生变化导致整个波导干涉条件发生变化，通过光电探测器接收信号，并进行处理即可反推外部环境磁场强度。
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公开(公告)号：CN115826227A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211455581.9
申请日：2022-11-21
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明涉及一种光学系统非金属密封材料的洁净处理方法和评价方法，解决了真空环境中光学元件易受非金属密封材料污染的问题，本发明通过第一遍清洗、真空烘烤以及第二遍清洗，对光学系统中非金属密封材料进行洁净处理，使得非金属密封材料的污染得到有效去除，实现非金属密封材料的彻底洁净。本发明的洁净处理方法，处理效果好，具有可靠、经济、高效的特点，处理后的材料对光学系统影响小，能够确保光学元件维持较高光学特性。
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公开(公告)号：CN115093113A
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202210690677.7
申请日：2022-06-17
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： C03B37/025 , C03B37/027 , C03B37/03
摘要： 本发明涉及一种用于微纳光纤拉制的直径在线监控系统，属于微纳光子学器件技术领域。所述直径在线监控系统主要由激光光源模块、模拟信号处理模块、数字信号处理模块、PC终端以及微纳光纤拉制装置组成。所述激光光源模块包括温度控制器、激光器以及隔离器；所述模拟信号处理模块包括光电转换装置、信号滤波装置以及差分信号放大装置；所述数字信号处理模块包括A/D转换器、队列存储和逻辑运算装置。本发明所述直径在线监控系统能够实现微纳光纤拉制全流程直径在线监控，可精确监测并控制微纳光纤直径范围500nm‑10μm，直径精度小于2％。
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公开(公告)号：CN113655010A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202111211048.3
申请日：2021-10-18
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种低压氧等离子体清洗有机污染物的性能评价方法，包括：利用峰值透过率获得特定碳氢类有机污染物空间浓度；按照碳原子数分配的氢原子个数改写确定的特定碳氢类有机污染物等效浓度；通过拟合确定的由化学反应常数、活性氧原子空间浓度及按碳原子数分配的氢原子个数构建的评价系数。本发明利用基于透过率测试的碳氢污染物等效空间浓度获得低压氧等离子体的评价系数，可以用于评价不同状态的低压氧等离子体对多孔增透膜内特定碳氢类有机污染物清洗性能。
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公开(公告)号：CN107179617A
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201710630998.7
申请日：2017-07-28
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02F1/065
CPC分类号： G02F1/065
摘要： 本发明公开了一种高速电光调制器，包括：微纳光纤耦合器，其采用两根单模光纤缠绕在一起，放入光纤拉制平台拉制而成；高分子电光材料层，其包覆在微纳光纤耦合器上；电极板，其抵近设置于所述高分子电光材料层的外部。采用本发明提供的新型高速电光调制器的制备方法，高效快速地制备出了调制速度快、光信号损耗小、信噪比高及成本低廉的电光调制器，当半导体激光器发出的激光从电光调制器的输入端注入该器件时，同时电极将电信号加在电极板两端，这将改变单元的表面折射率导致谐振波长发生变化，影响输出端光功率的变化，最终得到与电信号变化一致的光信号，能够用于光通信领域，解决了目前普通电光调制器成本高、调制速度慢、信噪比较低等问题。
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公开(公告)号：CN104316496B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201410612152.7
申请日：2014-11-05
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01N21/47
摘要： 本发明提供了一种高功率激光器中的油脂污染物监测装置及其监测方法，所述装置中的激光发生装置通过2×2耦合器Ⅰ，将所发生的激光分成两路，一路作为信号光依次输入至2×2耦合器、1×4耦合器、镀膜微纳光纤阵列、4×1合束器、2×1合束器、信号光探测器，另一路作为参考光输入至用于检测参考光强度的参考光探测器。信号光探测器依次与放大器、差分器、AD转换器、锁相调制器、微型计算机电连接。本发明的监测装置及监测方法通过微纳光纤镀膜材料折射率改变，影响其表面倏逝波的传输特性。本发明精度较高、能够用于真空监测环境、二次污染少，能够满足对油脂类污染物监测的特殊要求，能够实现易集成、易扩展、灵敏度高、准分布及实时在线测量。
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公开(公告)号：CN105527252A
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201610019827.6
申请日：2016-01-13
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01N21/55
CPC分类号： G01N21/55
摘要： 本发明提供了一种光学元件反射率测量仪，用于光学元件反射率的测量。本发明的光学元件反射率测量仪采用光电二极管采集光学元件或光学标准片的反射光并转换为电信号，电信号再经过前置放大器和锁相放大器放大后，得到与信号光强度成正比的直流电压信号。该仪器以测量光学标准片反射光所获得的直流电压信号为基准，测量待测元件反射光所获得的直流电压信号与基准比对，获得待测光学元件的反射率。本发明结构简单，易于实现，测量精度高，且能够实现对光学元件反射率的在线测量。
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公开(公告)号：CN105241779A
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201510730678.X
申请日：2015-11-02
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01N5/04
摘要： 本发明提供了一种机械件表面洁净度的检测方法。该检测方法利用AK225溶液对有机物的良好溶解性，对机械件表面的污染物进行充分取样；通过低真空烘干，使得AK225溶液和溶解的机械件表面污染物分离；使用称重法得出机械件表面单位面积污染物含量；对照标准，确定机械件表面洁净度数值。本发明的检测机械件表面洁净度的方法适用于航空、航天和高功率激光装置内部机械件表面洁净度的定量测试，测试精度优于0.1mg/ft2，可以定量的评价机械件表面的洁净度指标，具有检测结果精确，操作方法简单的优点。
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公开(公告)号：CN105234131A
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201510729977.1
申请日：2015-11-02
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明提供了一种用于去除光机元件表面微量有机污染物的烘烤装置。该烘烤装置利用低真空烘烤方式，通过红外烘烤灯烘烤出金属或熔石英光机元件表面或亚表面的有机污染物，并将有机污染物利用微量循环空气带出真空箱。该烘烤装置使用空气过滤器和AMC过滤器，避免了空气中的颗粒及有机物对光机元件表面的二次污染；该烘烤装置通过调节真空压力及烘烤温度，可以在确保在光机元件性能不变的情况下去除光机元件表面或者亚表面有机污染物，同时达到较高的洁净度等级。本发明的烘烤装置具有有机污染物去除效果好、结构简单、不引入二次污染、易于使用的优点，可拓展适用于航空、航天等对洁净度要求比较高的领域。
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