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公开(公告)号：CN107179516B
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN201710631839.9
申请日：2017-07-28
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01R33/032
摘要： 本发明公开了一种基于单模‑多模‑无芯光纤结构的磁场强度检测传感器，包括：单模光纤；多模光纤，其输入端与单模光纤的输出端熔接；无芯光纤，其一端与多模光纤的输出端偏心熔接；无芯光纤与多模光纤偏心熔接后的不重叠位置处包覆第一金属膜层；无芯光纤的另一端面附着第二金属膜层；无芯光纤的表面包覆超磁致伸缩材料层。将磁场强度检测传感器置于磁场中，磁场强度发生变化，会导致有超磁致伸缩材料薄膜发生形变及波导折射率发生变化，从而引起无芯光纤纵向长度产生微小形变及谐振条件发生变化，使马赫‑泽德混合干涉中一干涉臂光程发生变化导致整个波导干涉条件发生变化，通过光电探测器接收信号，并进行处理即可反推外部环境磁场强度。
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公开(公告)号：CN113655010A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202111211048.3
申请日：2021-10-18
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种低压氧等离子体清洗有机污染物的性能评价方法，包括：利用峰值透过率获得特定碳氢类有机污染物空间浓度；按照碳原子数分配的氢原子个数改写确定的特定碳氢类有机污染物等效浓度；通过拟合确定的由化学反应常数、活性氧原子空间浓度及按碳原子数分配的氢原子个数构建的评价系数。本发明利用基于透过率测试的碳氢污染物等效空间浓度获得低压氧等离子体的评价系数，可以用于评价不同状态的低压氧等离子体对多孔增透膜内特定碳氢类有机污染物清洗性能。
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公开(公告)号：CN113552725A
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202110817093.7
申请日：2021-07-20
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
发明人： 杨英 , 王德恩 , 陈良明 , 张鑫 , 郑胜亨 , 廖予祯 , 郭雨源 , 韩伟 , 田野 , 邓学伟 , 王芳 , 许党朋 , 杨敏 , 杨开栋 , 刘昊 , 李明中 , 袁强 , 袁晓东 , 胡东霞
摘要： 本发明涉及一种激光束同轴同波面控制系统及方法，属于光学工程技术领域，包括多路输入子束激光、取样镜、光束分离单元和处理机，输入子束激光通过准直传输单元传输至第一合束元件形成合束激光，合束激光经取样镜分为测量激光和主激光，光束分离单元将测量激光分成多路测量子束激光，保证多路测量子束激光的波前像差能够被分别采集，处理机对波前像差进行计算，得到指向信息和离焦信息，实现对输入子束激光的指向控制和焦面控制，本发明借助光束分离单元，实现一台波前传感器或图像传感器分别采集多路激光波前信息或光斑信息，通过处理机计算得出指向信息和离焦信息，并驱动器件进行调节，实现闭环控制，消除光路的指向误差和焦面误差。
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公开(公告)号：CN107179617A
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201710630998.7
申请日：2017-07-28
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02F1/065
CPC分类号： G02F1/065
摘要： 本发明公开了一种高速电光调制器，包括：微纳光纤耦合器，其采用两根单模光纤缠绕在一起，放入光纤拉制平台拉制而成；高分子电光材料层，其包覆在微纳光纤耦合器上；电极板，其抵近设置于所述高分子电光材料层的外部。采用本发明提供的新型高速电光调制器的制备方法，高效快速地制备出了调制速度快、光信号损耗小、信噪比高及成本低廉的电光调制器，当半导体激光器发出的激光从电光调制器的输入端注入该器件时，同时电极将电信号加在电极板两端，这将改变单元的表面折射率导致谐振波长发生变化，影响输出端光功率的变化，最终得到与电信号变化一致的光信号，能够用于光通信领域，解决了目前普通电光调制器成本高、调制速度慢、信噪比较低等问题。
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公开(公告)号：CN104316496B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201410612152.7
申请日：2014-11-05
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01N21/47
摘要： 本发明提供了一种高功率激光器中的油脂污染物监测装置及其监测方法，所述装置中的激光发生装置通过2×2耦合器Ⅰ，将所发生的激光分成两路，一路作为信号光依次输入至2×2耦合器、1×4耦合器、镀膜微纳光纤阵列、4×1合束器、2×1合束器、信号光探测器，另一路作为参考光输入至用于检测参考光强度的参考光探测器。信号光探测器依次与放大器、差分器、AD转换器、锁相调制器、微型计算机电连接。本发明的监测装置及监测方法通过微纳光纤镀膜材料折射率改变，影响其表面倏逝波的传输特性。本发明精度较高、能够用于真空监测环境、二次污染少，能够满足对油脂类污染物监测的特殊要求，能够实现易集成、易扩展、灵敏度高、准分布及实时在线测量。
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公开(公告)号：CN105527252A
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201610019827.6
申请日：2016-01-13
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01N21/55
CPC分类号： G01N21/55
摘要： 本发明提供了一种光学元件反射率测量仪，用于光学元件反射率的测量。本发明的光学元件反射率测量仪采用光电二极管采集光学元件或光学标准片的反射光并转换为电信号，电信号再经过前置放大器和锁相放大器放大后，得到与信号光强度成正比的直流电压信号。该仪器以测量光学标准片反射光所获得的直流电压信号为基准，测量待测元件反射光所获得的直流电压信号与基准比对，获得待测光学元件的反射率。本发明结构简单，易于实现，测量精度高，且能够实现对光学元件反射率的在线测量。
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公开(公告)号：CN105241779A
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201510730678.X
申请日：2015-11-02
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01N5/04
摘要： 本发明提供了一种机械件表面洁净度的检测方法。该检测方法利用AK225溶液对有机物的良好溶解性，对机械件表面的污染物进行充分取样；通过低真空烘干，使得AK225溶液和溶解的机械件表面污染物分离；使用称重法得出机械件表面单位面积污染物含量；对照标准，确定机械件表面洁净度数值。本发明的检测机械件表面洁净度的方法适用于航空、航天和高功率激光装置内部机械件表面洁净度的定量测试，测试精度优于0.1mg/ft2，可以定量的评价机械件表面的洁净度指标，具有检测结果精确，操作方法简单的优点。
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公开(公告)号：CN105234131A
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201510729977.1
申请日：2015-11-02
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明提供了一种用于去除光机元件表面微量有机污染物的烘烤装置。该烘烤装置利用低真空烘烤方式，通过红外烘烤灯烘烤出金属或熔石英光机元件表面或亚表面的有机污染物，并将有机污染物利用微量循环空气带出真空箱。该烘烤装置使用空气过滤器和AMC过滤器，避免了空气中的颗粒及有机物对光机元件表面的二次污染；该烘烤装置通过调节真空压力及烘烤温度，可以在确保在光机元件性能不变的情况下去除光机元件表面或者亚表面有机污染物，同时达到较高的洁净度等级。本发明的烘烤装置具有有机污染物去除效果好、结构简单、不引入二次污染、易于使用的优点，可拓展适用于航空、航天等对洁净度要求比较高的领域。
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公开(公告)号：CN110813924B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN201911291678.9
申请日：2019-12-16
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，包括：底板，其上通过支撑柱放置有光学元件；风刀及离子棒单元，其通过支撑单元连接在底板上，且风刀及离子棒单元位于光学元件的一端，并使风刀及离子棒单元的出风口正对光学元件的上表面；静电吸附电极，其包括平行设置的正电极棒和负电极棒，正电极棒和负电极棒分别通过电极支撑架连接在底板上，且正电极棒位于光学元件的上方，负电极棒位于光学元件的的下方。本发明通过风刀及离子棒产生离子风或高速气流将光学元件表面的污染物去除并使污染物荷电，采用静电吸附电极在光学元件末端或将静电吸附电极带动在光学元件表面进行来回运动，对污染物进行收集，从而达到污染物去除的目的。
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公开(公告)号：CN111175683B
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202010181860.5
申请日：2020-03-16
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G01R35/00
摘要： 本发明公开了一种交直流复合磁场‑力‑热环境下实验测试系统，包括：工作台；一对平行的直流亥姆霍兹线圈，其通过移动单元设置在工作台上；两对平行的交流亥姆霍兹线圈，其通过支撑杆设置在工作台上，且两对平行的交流亥姆霍兹线圈连接在支撑杆的顶部并合围形成容纳腔体；且容纳腔体位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈之间的中心处；温控炉，其设置在支撑杆的顶部，且温控炉位于容纳腔体内；测力单元，其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的一端，且测力单元的施力方向与一对平行的直流亥姆霍兹线圈的轴线平行；夹具单元，其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的另一端，且夹具单元与测力单元相对应设置。
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