发明公开
- 专利标题: 薄膜晶体管、薄膜晶体管的制备方法和显示器件
-
申请号: CN202111611837.6申请日: 2021-12-27
-
公开(公告)号: CN114284362A公开(公告)日: 2022-04-05
- 发明人: 胡诗犇 , 龚政 , 庞超 , 李育智 , 郭婵 , 王建太 , 潘章旭 , 邹胜晗 , 赵维 , 陈志涛
- 申请人: 广东省科学院半导体研究所
- 申请人地址: 广东省广州市天河区长兴路363号
- 专利权人: 广东省科学院半导体研究所
- 当前专利权人: 广东省科学院半导体研究所
- 当前专利权人地址: 广东省广州市天河区长兴路363号
- 代理机构: 北京超凡宏宇专利代理事务所
- 代理商 宋南
- 主分类号: H01L29/786
- IPC分类号: H01L29/786 ; H01L21/34
摘要:
本发明的实施例提供了一种薄膜晶体管、薄膜晶体管的制备方法和显示器件,涉及半导体电子器件领域,该薄膜晶体管及其制备方法在衬底上依次设置栅极、栅绝缘层和半导体层,然后在半导体层的两侧设置源极和漏极,并在半导体层上设置包覆在源极和漏极的钝化层,其中,源极与半导体层的接触界面形成有第一绝缘界面层,在漏极和半导体层的接触界面形成有第二绝缘界面层,通过设置第一绝缘界面层和第二绝缘界面层,能够使得源漏极与半导体层之间形成肖特基势垒,从而形成了肖特基势垒TFT,同时无需额外沉积绝缘层,使得器件成本低廉、可靠性好,并通过形成肖特基势垒能够大幅降低饱和电压,从而减少TFT的工作能耗。
IPC分类: