半导体结构及其制作方法

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摘要：

本发明实施例提供一种半导体结构及其制作方法，半导体结构包括：基底，所述基底内具有凹槽；第一膜层，所述第一膜层覆盖所述凹槽底面和侧壁；第二膜层，所述第二膜层覆盖所述第一膜层表面，所述第二膜层的阶梯覆盖率不同于所述第一膜层的阶梯覆盖率。本发明实施例有利于获取具有预设阶梯覆盖率的多层结构。

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L29/00	专门适用于整流、放大、振荡或切换，并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒，例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器；半导体本体或其电极的零部件（H01L31/00至H01L47/00，H01L51/05优先；除半导体或其电极之外的零部件入H01L23/00；由在一个共用衬底内或其上形成的多个固态组件组成的器件入H01L27/00）
H01L29/40	.按其电极特征区分的
H01L29/41	..以其形状、相对尺寸或位置为特征的
H01L29/423	...不通有待整流、放大或切换电流的