本发明提出一种真空腔室及晶圆机台，真空腔室内设置有用以承载晶圆的支撑脚；其中，真空腔室还包含晶圆位置校正系统，晶圆位置校正系统包含感测单元、调节单元以及控制系统；感测单元设置于支撑脚，用以感测晶圆于上方施加的压力信号，感测单元分布于一校准区域的边缘；调节单元围绕校准区域的外周分布于真空腔室，用以可调节地推动晶圆；控制系统分别电连接于感测单元和调节单元，用以根据压力信号，选择并控制部分调节单元调节晶圆的位置，以使晶圆的中心与校准区域的中心重合。