Invention Grant
- Patent Title: 场效应晶体管、低功耗CMOS集成芯片、电路及设备
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Application No.: CN202210533320.8Application Date: 2022-05-17
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Publication No.: CN114639729BPublication Date: 2022-10-11
- Inventor: 刘欢 , 玉虓 , 韩根全 , 刘艳 , 金成吉 , 陈佳佳
- Applicant: 之江实验室
- Applicant Address: 浙江省杭州市余杭区文一西路1818号人工智能小镇10号楼
- Assignee: 之江实验室
- Current Assignee: 之江实验室
- Current Assignee Address: 浙江省杭州市余杭区文一西路1818号人工智能小镇10号楼
- Agency: 杭州求是专利事务所有限公司
- Agent 邱启旺
- Main IPC: H01L29/423
- IPC: H01L29/423 ; H01L29/78
Abstract:
本发明公开了一种场效应晶体管、低功耗CMOS集成芯片、电路及设备。所述场效应晶体管其自下而上包括衬底、绝缘界面层、栅介质层、栅电极;所述衬底两边分别设有源极和漏极,所述栅介质层具有可移动离子。所述可移动离子在电场下的迁移会在界面处产生偶极子;所述偶极子在电场转向时发生反转,使得所述场效应晶体管具有负电容特性而能实现超陡峭亚阈值摆幅。本发明可以利用栅介质中可移动离子实现超陡峭亚阈值摆幅晶体管,这可用于低功耗CMOS集成芯片。
Public/Granted literature
- CN114639729A 场效应晶体管、低功耗CMOS集成芯片、电路及设备 Public/Granted day:2022-06-17
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