场效应晶体管、低功耗CMOS集成芯片、电路及设备
Abstract:
本发明公开了一种场效应晶体管、低功耗CMOS集成芯片、电路及设备。所述场效应晶体管其自下而上包括衬底、绝缘界面层、栅介质层、栅电极;所述衬底两边分别设有源极和漏极,所述栅介质层具有可移动离子。所述可移动离子在电场下的迁移会在界面处产生偶极子;所述偶极子在电场转向时发生反转,使得所述场效应晶体管具有负电容特性而能实现超陡峭亚阈值摆幅。本发明可以利用栅介质中可移动离子实现超陡峭亚阈值摆幅晶体管,这可用于低功耗CMOS集成芯片。
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