发明公开
- 专利标题: p型大面积SnTe纳米薄膜光电材料及其制备方法
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申请号: CN202210444639.3申请日: 2022-04-26
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公开(公告)号: CN114934257A公开(公告)日: 2022-08-23
- 发明人: 宋立媛 , 唐利斌 , 郝群 , 王静宇 , 吕浩 , 何文瑾 , 李艳辉 , 俞见云 , 齐浩泽 , 王海澎 , 覃钢 , 辛永刚 , 庄继胜
- 申请人: 昆明物理研究所
- 申请人地址: 云南省昆明市五华区教场东路31号
- 专利权人: 昆明物理研究所
- 当前专利权人: 昆明物理研究所
- 当前专利权人地址: 云南省昆明市五华区教场东路31号
- 代理机构: 昆明祥和知识产权代理有限公司
- 代理商 和琳
- 主分类号: C23C14/18
- IPC分类号: C23C14/18 ; C23C14/35 ; C23C14/54 ; H01L31/0272 ; H01L31/0392 ; B82Y15/00 ; B82Y25/00 ; B82Y40/00
摘要:
p型大面积SnTe纳米薄膜光电材料及其制备方法,涉及探测器用光电薄膜制备领域,尤其涉及一种p型SnTe纳米薄膜光电材料及其制备方法。本发明的方法通过使用SnTe单靶,利用射频磁控溅射方法,采用较低的靶材功率、无需升高衬底温度、无需后退火处理即可得到已经晶化的、符合化学计量比的p型二元化合物SnTe纳米薄膜材料。本发明制备方法简单、有效、低能耗,成膜均匀、连续,所得薄膜与基底的粘附性好,并实现了SnTe纳米薄膜光电材料的大面积制备。
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