碲化锡薄膜/锗异质结宽谱光电探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN115000208A

    公开(公告)日:2022-09-02

    申请号:CN202210447367.2

    申请日:2022-04-26

    摘要: 基于碲化锡薄膜/锗异质结宽谱光电探测器及其制备方法,涉及可见至近红外波段的宽光谱光电探测领域,尤其涉及一种基于新型二维半导体材料的高探测率、高响应率的光电探测器及其制备方法。本发明方法采用二维半导体材料碲化锡薄膜为构建异质结的p‑型材料,基底采用锗衬底。采用“一步式”直流溅射法在清洗、预掩膜后的锗基底上,直接溅射碲化锡薄膜以制备碲化锡薄膜/锗异质结。去除掩膜后,热蒸镀金属Al电极以制备光伏探测器原型器件。与现有制备技术相比,本发明制备方法简单高效、低成本,低功耗,实现了可见至近红外波段(400‑1050 nm)的室温工作的碲化锡薄膜/锗异质结宽谱光电探测器的制备。制备工艺高效、简单,室温下器件响应率、探测率高。

    碲化锡薄膜/锗异质结宽谱光电探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN115000208B

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN202210447367.2

    申请日:2022-04-26

    摘要: 基于碲化锡薄膜/锗异质结宽谱光电探测器及其制备方法,涉及可见至近红外波段的宽光谱光电探测领域,尤其涉及一种基于新型二维半导体材料的高探测率、高响应率的光电探测器及其制备方法。本发明方法采用二维半导体材料碲化锡薄膜为构建异质结的p‑型材料,基底采用锗衬底。采用“一步式”直流溅射法在清洗、预掩膜后的锗基底上,直接溅射碲化锡薄膜以制备碲化锡薄膜/锗异质结。去除掩膜后,热蒸镀金属Al电极以制备光伏探测器原型器件。与现有制备技术相比,本发明制备方法简单高效、低成本,低功耗,实现了可见至近红外波段(400‑1050 nm)的室温工作的碲化锡薄膜/锗异质结宽谱光电探测器的制备。制备工艺高效、简单,室温下器件响应率、探测率高。

    SnTe/n-Si紫外至短波红外光伏探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN116314445A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310159115.4

    申请日:2023-02-23

    摘要: SnTe/n‑Si紫外至短波红外光伏探测器及其制备方法,涉及光伏探测领域。本发明方法采用n型Si作为异质衬底材料,采用SnTe纳米薄膜作为p型半导体材料,以制备SnTe/n‑Si红外光伏探测器。采用射频磁控溅射法,在预先掩模过的n‑Si衬底上溅射一定厚度的SnTe纳米薄膜,以制备SnTe/n‑Si异质结构。采用热蒸发法蒸镀具有一定图形的金属电极,以制备SnTe/n‑Si红外光伏探测器。与现有的化学气相沉积法相比,本发明制备方法简洁、低成本;实现了室温下、在紫外至短波红外波段(365‑2050 nm)具有光电响应特性的SnTe/n‑Si光伏探测器的制备;该器件在近红外波段具有高的响应率和探测率;并且该器件探测波长超过了Si的截止波长,由于与SnTe纳米薄膜相结合,使异质结光伏器件的探测波长范围得到了拓展。

    宽波段PbS量子点基光电探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN116190486A

    公开(公告)日:2023-05-30

    申请号:CN202211705421.5

    申请日:2022-12-29

    摘要: 宽波段PbS量子点基光电探测器及其制备方法,属于光电探测技术领域。该探测器包括:衬底;碲化铋(Bi2Te3),形成于衬底上,并进行快速退火处理;PbS胶体量子点,形成于碲化铋(Bi2Te3)上;Al电极,形成于PbS胶体量子点上。该光电探测器的制备方法中,碲化铋(Bi2Te3)通过磁控溅射的方法生长,并在快速退火炉中退火;PbS胶体量子点薄膜通过旋涂的方式成膜,并在旋涂过程中进行配体交换;Al电极用进行掩膜后,使用物理气相沉积(PVD)技术蒸镀。本发明中,PbS CQDs有强吸收的特点,Bi2Te3材料具有高迁移率、强吸收和宽波段响应的特点,利用两种材料的协同效应,在室温下就实现了可见‑中波的宽波段探测。