发明公开
- 专利标题： 遮罩特征分析的方法及设备
-
申请号： CN202110851395.6申请日： 2021-07-27
-
公开(公告)号： CN114993991A公开(公告)日： 2022-09-02
- 发明人: 陈建诚 , 林秉勳 , 李环陵 , 连大成 , 陈嘉仁 , 李信昌
- 申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址： 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
- 专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址： 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
- 代理机构： 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 徐金国
- 优先权： 17/316,003 20210510 US
- 主分类号： G01N21/45
- IPC分类号： G01N21/45
摘要：
一种遮罩特征分析的方法及设备，遮罩特征分析的方法包含量测用于微影的反射或透射遮罩的干涉信号、以及基于干涉信号确定反射或透射遮罩的品质指标。一种遮罩特征分析的设备包含光源、光学光栅及光学侦测器阵列。光源经配置以用光照射反射或透射遮罩，由此产生遮罩反射或遮罩透射光。光学光栅经配置以将遮罩反射或遮罩透射光转换为干涉图案。光学侦测器阵列经配置以通过量测干涉图案来产生干涉信号。
