一种在MgO衬底上制备高质量Fe3O4薄膜的方法
摘要:
本发明公开了一种在MgO(001)衬底上制备高质量Fe3O4(001)薄膜的方法,使用磁控溅射装置在MgO(001)衬底上制备高质量Fe3O4(001)薄膜,安装靶材,获得腔体真空;衬底预处理;预溅射;溅射沉积薄膜;所述步骤1)中,使用高纯Fe即纯度大于99.95%靶材,腔体真空度达到1×10‑8Torr以上;溅射时衬底温度保持在300℃,样品台旋转速度5rpm,打开样品台挡板开始沉积薄膜,根据溅射的时间控制沉积薄膜的厚度;射频电源功率为50W。
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