发明授权
- 专利标题： 膜形成用组合物
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申请号： CN202180024987.9申请日： 2021-03-31
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公开(公告)号： CN115362216B公开(公告)日： 2024-07-19
- 发明人: 加藤宏大 , 武田谕 , 志垣修平 , 柴山亘 , 中岛诚
- 申请人： 日产化学株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 日产化学株式会社
- 当前专利权人： 日产化学株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京市中咨律师事务所
- 代理商 田欣; 段承恩
- 国际申请： PCT/JP2021/014019 2021.03.31
- 国际公布： WO2021/201167 JA 2021.10.07
- 进入国家日期： 2022-09-27
- 主分类号： C08L83/04
- IPC分类号： C08L83/04 ; C08G77/14 ; C08K5/05 ; C08K5/06 ; C08K5/19 ; C08K5/34 ; C08K5/42 ; C08K5/49 ; C08K5/50 ; G03F7/11 ; G03F7/26 ; H01L21/027
摘要：
本发明提供用于形成溶剂显影型抗蚀剂的抗蚀剂下层膜的膜形成用组合物，所述抗蚀剂下层膜能够形成良好的抗蚀剂图案。该膜形成用组合物的特征在于包含水解性硅烷化合物的水解缩合物、选自由氨基塑料交联剂及酚醛塑料交联剂组成的组中的至少1种交联剂和溶剂，且上述水解性硅烷化合物包含下述式(1)表示的水解性硅烷。R1aR2bSi(R3)4‑(a+b) (1)。
公开/授权文献
- CN115362216A 膜形成用组合物 公开/授权日：2022-11-18
