发明公开
- 专利标题: 半导体结构、形成堆叠单元层及堆叠二维材料层的方法
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申请号: CN202210055173.8申请日: 2022-01-18
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公开(公告)号: CN115498011A公开(公告)日: 2022-12-20
- 发明人: 沈新伟 , 陈则安 , 李东颖 , 李连忠
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号
- 代理机构: 南京正联知识产权代理有限公司
- 代理商 顾伯兴
- 优先权: 17/460,329 20210830 US
- 主分类号: H01L29/06
- IPC分类号: H01L29/06 ; H01L29/78 ; H01L21/336
摘要:
一种半导体结构包括半导体衬底、多个堆叠单元、导电结构、多个介电质、第一电极条带、第二电极条带以及多个接触结构。堆叠单元在半导体衬底之上向上堆叠,且包括第一钝化层、第二钝化层及夹置在第一钝化层与第二钝化层之间的沟道层。导电结构设置在半导体衬底上且包绕在堆叠单元周围。介电质环绕堆叠单元且将堆叠单元与导电结构分离。第一电极条带与第二电极条带位于导电结构的两个相对的侧上。接触结构将堆叠单元中的每一者的沟道层连接到第一电极条带及第二电极条带。
IPC分类: