发明公开
- 专利标题： 保持装置、曝光装置以及物品制造方法
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申请号： CN202211024317.X申请日： 2022-08-25
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公开(公告)号： CN115857279A公开(公告)日： 2023-03-28
- 发明人: 白畑恭平 , 羽切正人 , 木村一贵 , 关美津留 , 由井友树 , 西川友弘
- 申请人： 佳能株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 佳能株式会社
- 当前专利权人： 佳能株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 中国贸促会专利商标事务所有限公司
- 代理商 李鹏宇
- 优先权： 2021-155516 20210924 JP
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
本发明提供保持装置、曝光装置以及物品制造方法。保持装置保持光学元件，其中，该保持装置具有基座、保持上述光学元件和上述基座的第1保持部、以及在与上述第1保持部保持上述光学元件的保持位置不同的位置保持上述光学元件和上述基座的第2保持部，构成为能够变更上述第1保持部以及上述第2保持部中的至少一方的刚性。