发明公开
- 专利标题: 一种中长波双色红外探测器
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申请号: CN202211315089.1申请日: 2022-10-26
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公开(公告)号: CN115939236A公开(公告)日: 2023-04-07
- 发明人: 张东亮 , 祝连庆 , 董明利 , 夏嘉斌 , 张旭
- 申请人: 广州市南沙区北科光子感知技术研究院 , 北京信息科技大学
- 申请人地址: 广东省广州市南沙区望江二街4号601房之03室;
- 专利权人: 广州市南沙区北科光子感知技术研究院,北京信息科技大学
- 当前专利权人: 广州市南沙区北科光子感知技术研究院,北京信息科技大学
- 当前专利权人地址: 广东省广州市南沙区望江二街4号601房之03室;
- 代理机构: 北京恒律知识产权代理有限公司
- 代理商 庞立岩
- 主分类号: H01L31/0352
- IPC分类号: H01L31/0352 ; H01L31/0304 ; H01L31/101
摘要:
本发明提供了一种中长波双色红外探测器,包括:GaSb衬底;在GaSb衬底生长的GaSb缓冲层;在GaSb缓冲层生长的长波通道下接触层,其中,长波通道下接触层为100nm厚的14InAs/7GaSb超晶格,并进行Si掺杂;在长波通道下接触层生长的长波通道吸收层,其中,长波通道吸收层为1600nm厚的14InAs/7GaSb超晶格;在长波通道的吸收层生长的公共势垒层,其中,公共势垒层为100nm厚的AlGaSb;在公共势垒层生长的中波通道吸收层,其中,中波通道吸收层为2000nm厚的InAs/InAsSb超晶格;在中波通道吸收层生长的中波通道上接触层,其中,中波通道上接触层为100nm厚的InAs/InAsSb超晶格,并进行Si掺杂;在中波通道上接触层生长的顶电极层,在GaSb缓冲层生长的底电极层。本发明降低器件暗电流,提高器件探测性能,具有良好的探测效果。
公开/授权文献
- CN115939236B 一种中长波双色红外探测器 公开/授权日:2024-09-10
IPC分类: