本发明公开了一种改进的双面往复连续磁控溅射镀膜机，包括设于真空室内的第一冷辊、第二冷辊和第三冷辊、第一回转换靶装置、第二回转换靶装置、第三回转换靶装置、第四回转换靶装置和纠偏装置，第一冷辊、第二冷辊和第三冷辊横向并排布置，且中间为第二冷辊，开卷机构和收卷机构之间的基带经过设于真空室内的换向辊换向后呈“S”形缠绕于第一冷辊、第二冷辊和第三冷辊上，第一冷辊包覆有基带的圆周面上对应设置有第一回转换靶装置和第二回转换靶装置，第三冷辊包覆有基带的圆周面上对应设置有第三回转换靶装置和第四回转换靶装置。本发明克服现有磁控溅射镀膜机设备的稳定性以及基带在镀膜过程中的不均匀性的问题。