公开(公告)号：CN116103629A

公开(公告)日：2023-05-12

申请号：CN202310081476.1

申请日：2023-02-08

申请人： 常州工学院

发明人： 吴佳云 ,  李志隆 ,  陈功 ,  管家乐 ,  柏昕言 ,  屠泽峰 ,  张咏旭 ,  左佑 ,  吴回忠 ,  王震 ,  董文贤

IPC分类号： C23C14/56 ,  C23C14/35

摘要： 本发明公开了一种改进的双面往复连续磁控溅射镀膜机，包括设于真空室内的第一冷辊、第二冷辊和第三冷辊、第一回转换靶装置、第二回转换靶装置、第三回转换靶装置、第四回转换靶装置和纠偏装置，第一冷辊、第二冷辊和第三冷辊横向并排布置，且中间为第二冷辊，开卷机构和收卷机构之间的基带经过设于真空室内的换向辊换向后呈“S”形缠绕于第一冷辊、第二冷辊和第三冷辊上，第一冷辊包覆有基带的圆周面上对应设置有第一回转换靶装置和第二回转换靶装置，第三冷辊包覆有基带的圆周面上对应设置有第三回转换靶装置和第四回转换靶装置。本发明克服现有磁控溅射镀膜机设备的稳定性以及基带在镀膜过程中的不均匀性的问题。

公开(公告)号：CN117821914A

公开(公告)日：2024-04-05

申请号：CN202310209344.2

申请日：2023-03-07

申请人： 常州工学院

发明人： 李志隆 ,  吴佳云 ,  陈功 ,  薛雯丽 ,  柏昕言 ,  王震 ,  吴晨昊 ,  董文贤 ,  王梓翔 ,  叶奕琳 ,  李鹏远 ,  屠泽锋 ,  陆靖皓

IPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/54 ,  C23C14/58 ,  C23C14/50

摘要： 本发明公开了一种磁控溅射镀膜厚度的控制方法，包括：S1：训练模拟阶段工艺参数，通过粗调阶段工艺参数时数值的设定和微调阶段工艺参数时数值的设定，打开溅射电源后，得到时间‑镀膜厚度曲线，通过数学公式拟合该曲线用于观察基材的镀膜厚度变化；S2：实际镀膜阶段，设置与训练阶段相同批次基材；S3：通过在粗调阶段设定的工艺参数进行镀膜；S4：在设定微调阶段工艺参数中进行镀膜；S5：实时观测晶体所镀厚度。本发明通过时间的控制，结合两次工艺参数的设定精准控制基材薄膜厚度，实现产品质量的可控性，提升产品的优良率。

公开(公告)号：CN116592804A

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：CN202310372293.5

申请日：2023-04-07

申请人： 常州工学院

发明人： 薛雯丽 ,  吴晨昊 ,  董文贤 ,  陶浩然 ,  李志隆 ,  吴佳云 ,  袁典 ,  李欢 ,  陈功

IPC分类号： G01B17/02

摘要： 本发明公开了一种石英晶体振荡器镀膜厚度检测方法，包括通过石英晶体振荡器获取镀膜的膜层与石英晶体的声阻抗比值Rz；根据Rz＜1推导出公式一以及根据Rz≥1推导出公式二；通过公式一或公式二确定不同待检测的镀膜的厚度。该石英晶体振荡器镀膜厚度检测方法中的公式一是现当镀膜膜层厚度较大时，频率与厚度的线性关系不再满足，呈非线性关系进行的改进，是针对Rz