在不影响C形护罩的机械强度或使用寿命的情况下为等离子体均匀性进行C形护罩修改
摘要:
一种用于等离子体处理室的约束环包括上部水平区段、竖直区段和下部水平区段。上部水平区段在约束环的上部内半径和外半径之间延伸,下部水平区段在约束环的下部内半径和外半径之间延伸,并且包括延伸到下部内半径的延伸区段。下部水平区段的顶表面提供向下朝向下部内半径的角度。竖直区段设置在约束环的外半径和内侧半径之间。竖直区段将约束环的上部水平区段连接到下部水平区段。
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