发明授权
- 专利标题: 处理腔室、基片处理方法及处理装置
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申请号: CN202310437556.6申请日: 2023-04-23
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公开(公告)号: CN116162922B公开(公告)日: 2023-09-22
- 发明人: 施述鹏 , 严大 , 黎微明 , 康旭 , 沈安磊
- 申请人: 江苏微导纳米科技股份有限公司
- 申请人地址: 江苏省无锡市新吴区漓江路11号
- 专利权人: 江苏微导纳米科技股份有限公司
- 当前专利权人: 江苏微导纳米科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省无锡市新吴区漓江路11号
- 代理机构: 深圳市威世博知识产权代理事务所
- 代理商 陈婷
- 主分类号: C23C16/455
- IPC分类号: C23C16/455
摘要:
本申请公开了一种处理腔室、基片处理方法及处理装置。处理腔室包括腔体组件以及腔门组件;腔体组件包括腔体;腔门组件包括喷淋板以及腔门,喷淋板设置在腔门上,腔门组件关闭时喷淋板盖设在腔体的一端,腔体与喷淋板围设成处理空间,喷淋板可向处理空间通入处理气体。本申请所提供的处理腔室,喷淋板盖设在腔体上,简化了处理腔室及其内部结构,在处理腔室占用相同使用空间的情况下增加了腔体的内部空间,使得腔体可容纳更大、更多的基片,提高了处理的产能,降低了处理的生产成本;采用喷淋板向处理空间通入处理气体,使得处理空间内的气流更加均匀稳定,可提高基片处理的均匀性。
公开/授权文献
- CN116162922A 处理腔室、基片处理方法及处理装置 公开/授权日:2023-05-26