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公开(公告)号：CN117737703A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311676422.6
申请日：2022-03-29
Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司
IPC: C23C16/50 , C23C16/455
Abstract: 本申请公开了一种薄膜沉积装置，包括：沿第一方向依次设置的喷淋背板和喷淋板，喷淋背板设有第七通孔；腔盖；第三连接组件，包括：第三紧固件，穿设于第七通孔，用于将喷淋背板安装紧固于腔盖；绝缘套筒，设于第七通孔内，用于将第三紧固件与喷淋背板绝缘。本申请薄膜沉积装置绝缘性能良好。
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公开(公告)号：CN117051378A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202310848059.5
申请日：2023-07-11
Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司
IPC: C23C16/455
Abstract: 本申请公开了一种原子层沉积设备。原子层沉积设备包括负压泵和工艺腔体。负压泵通过第一气流管路和第二气流管路分别与工艺腔体连通。第一气流管路和第二气流管路分别设置有第一阀门和第二阀门，并且第一气流管路和第二气流管路中的至少一者串联设置有冷阱。工艺腔体还设置有第一进气道、第二进气道和第三进气道，用于分别供第一工艺气体、第二工艺气体和惰性保护气进入工艺腔体。通过上述方式，本申请能够减少原子层沉积设备中粉尘的产生，减少管路堵塞和设备损伤。
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公开(公告)号：CN116162922B
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202310437556.6
申请日：2023-04-23
Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司
IPC: C23C16/455
Abstract: 本申请公开了一种处理腔室、基片处理方法及处理装置。处理腔室包括腔体组件以及腔门组件；腔体组件包括腔体；腔门组件包括喷淋板以及腔门，喷淋板设置在腔门上，腔门组件关闭时喷淋板盖设在腔体的一端，腔体与喷淋板围设成处理空间，喷淋板可向处理空间通入处理气体。本申请所提供的处理腔室，喷淋板盖设在腔体上，简化了处理腔室及其内部结构，在处理腔室占用相同使用空间的情况下增加了腔体的内部空间，使得腔体可容纳更大、更多的基片，提高了处理的产能，降低了处理的生产成本；采用喷淋板向处理空间通入处理气体，使得处理空间内的气流更加均匀稳定，可提高基片处理的均匀性。
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公开(公告)号：CN116590692A
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202310489360.1
申请日：2023-05-04
Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , H01L21/67 , H01L21/02
Abstract: 本发明提供一种喷淋板、反应腔室、使用气体的处理设备以及基片的处理方法，淋板一面为平面、另一面为非平面，可使得本体中部区域的厚度大于两侧区域的厚度，这样气道可以设置在本体的不同厚度处，使得位于中部的气道至喷淋面的距离大于两侧区域气道至喷淋面的距离，这样中部区域的喷淋路径较两侧区域的喷淋路径更长，而喷淋面的中部面向待加工基片的中部区域，喷淋面的两侧区域面向待加工基片的两侧区域，从而，可以通过喷淋路径长度不同，改善进气腔体的混气二次分配的效果，提高混气效率和均匀性，有利于镀膜均匀性的改善。
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公开(公告)号：CN115404464A
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202211164982.9
申请日：2022-09-23
Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司
IPC: C23C16/515 , H01L31/0216
Abstract: 本公开涉及沉积薄膜的方法和设备、薄膜以及太阳能电池。根据本公开的一实施例，一种沉积薄膜的方法包括：提供具有第一表面的基板；以及通过多个脉冲步骤对所述基板的所述第一表面施加至少一种化学反应物，以在所述第一表面上沉积薄膜。所述沉积薄膜的方法可以提供高质量的薄膜，从而提高包括所述薄膜的硅光伏的能量转换效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113564565A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110831837.0
申请日：2021-07-22
Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/52
Abstract: 本申请公开了一种粉体镀膜装置及方法，该粉体镀膜装置包括：反应容器，设置有容置腔；搅拌机构，至少部分设置在所述容置腔内，用于搅拌所述容置腔内的粉体；第一罩壳，位于所述容置腔内，且围设在部分所述搅拌机构的外围；其中，所述第一罩壳内部形成第一通道，所述第一罩壳与所述容置腔的侧壁之间形成第二通道；当所述搅拌机构运行时，处于所述第一通道内的粉体具有自下而上的运动分量，处于所述第二通道的粉体具有自上而下的运动分量。本申请提供的粉体镀膜装置及方法，能够提高镀膜均匀性和镀膜效率。
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公开(公告)号：CN113106426A
公开(公告)日：2021-07-13
申请号：CN202110315671.7
申请日：2021-03-24
Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司
IPC: C23C16/50 , C23C16/458 , H01L31/0216 , H01L31/18
Abstract: 本发明涉及一种支撑机构，包括至少两个支撑组件及至少两根承载杆。每一承载杆一端沿之套筒的轴向插入对应的套筒内，另一端突出于支撑件远离套筒的一端，也就是说至少两根承载杆沿X方向间隔布设，而所有的承载杆的承载面形成用于承载石墨舟承载位，且每一承载杆相对承载面的配接面支撑于对应的支撑件的支撑面，从而提高对承载杆的支撑能力，进而提高了承载杆自身的承载能力，使得至少两根承载杆能够承载重量重以及尺寸大的石墨舟，提高了加工效率。本发明还涉及推料装置、装载机台及PECVD设备。
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公开(公告)号：CN112030137A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN202010906168.4
申请日：2020-09-01
Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司
IPC: C23C16/442 , C23C16/455
Abstract: 本发明涉及一种镀膜腔体及粉末镀膜装置，镀膜腔体包括外腔体及收容于外腔体内的多个内腔体。在进行批量的粉末镀膜时，可将大量的粉末分配于多个内腔体内。这样，在总处理量不变的前提下，单个内腔体的体积将显著缩小，且每个内腔体内盛放的粉末的量将大大减小。因此，仅需较小流量的流化气便可使得每个内腔体内的粉末呈现出良好的流化状态。而且，多个内腔体采用分布式布置的方式设于环形收容腔，在总的容纳空间不变的前提下，多个内腔体的总表面积变大。而且，环形收容腔的内外两侧均可进行加热。因此，加热过程中可使内腔体受热更均匀，单个内腔体内粉末的温度一致性较好。因此，上述镀膜腔体及粉末镀膜装置能够显著改善量产时的镀膜效果。
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公开(公告)号：CN111619900A
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN202010595070.1
申请日：2020-06-24
Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司
IPC: B65B57/00 , B65B43/18 , B65B43/30 , B65B31/00 , B65B35/16 , B65B35/20 , B65B31/06 , B65B51/14 , B65B11/04 , B65B61/28 , B65C9/02 , B65C9/06 , B65C9/26 , B65C9/46
Abstract: 一种应用于晶圆盒自动封装设备中的封口模组，包括抽气机构、能够驱动所述抽气机构滑行的驱动装置以及与所述抽气机构配合的封口装置。所述抽气机构设有用以抽气的吸嘴，所述封口装置包括用以限位的压条以及用以封口的封刀。本发明实现了包装袋的自动化封口、解放了人力、提高了生产效率。
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公开(公告)号：CN111619898A
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN202010594952.6
申请日：2020-06-24
Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司
IPC: B65B57/00 , B65B43/18 , B65B43/30 , B65B31/00 , B65B35/16 , B65B35/20 , B65B31/06 , B65B51/14 , B65B11/04 , B65B61/28 , B65C9/02 , B65C9/06 , B65C9/26 , B65C9/46
Abstract: 一种应用于晶圆盒自动封装设备中的进出料装置，包括进料平台和出料平台。所述进料平台包括第一放置平台以及限位机构，所述限位机构能够将所述晶圆盒定位于所述第一放置平台上。所述出料平台包括货叉和第二放置平台，所述第二放置平台滑动定位在能够伸缩运动的所述货叉上。本发明既保证了晶圆盒在进料平台上的传输又提供给操作人员容身之处，方便了维修。
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