发明公开
- 专利标题: 一种金属箔加工方法及加工装置
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申请号: CN202111615884.8申请日: 2021-12-27
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公开(公告)号: CN116354153A公开(公告)日: 2023-06-30
- 发明人: 张可 , 苏陟 , 喻建国 , 朱宇华
- 申请人: 广州方邦电子股份有限公司 , 珠海达创电子有限公司
- 申请人地址: 广东省广州市高新技术产业开发区开源大道11号A5栋第六层;
- 专利权人: 广州方邦电子股份有限公司,珠海达创电子有限公司
- 当前专利权人: 广州方邦电子股份有限公司,珠海达创电子有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省广州市高新技术产业开发区开源大道11号A5栋第六层;
- 代理机构: 北京品源专利代理有限公司
- 代理商 吴萌
- 主分类号: B65H20/02
- IPC分类号: B65H20/02 ; B65H18/14 ; B65H18/02 ; H01C17/00 ; H01C17/14 ; H05K1/16
摘要:
本发明涉及金属箔加工技术领域,具体公开了一种金属箔加工方法及加工装置。本方法用于加工箔带,包括以下步骤:绕第一方向转动上料辊,将卷绕于上料辊的箔带输送至沉积腔内的沉积液中进行沉积操作。待沉积操作完成后,利用监控模块测量经过沉积操作后的箔带的电阻阻值,若电阻阻值不处于合格阈值范围内,对箔带进行再沉积操作,然后绕第一方向转动收卷辊,将箔带回收到收卷辊;否则直接绕第一方向转动收卷辊,将箔带回收到收卷辊。本方法借助上述步骤,能够实现对沉积操作后的箔带电阻阻值的监控,通过对不合格的箔带的再沉积操作,能够对阻值不满足需求的箔带进行再度调整,这保障了箔带上的沉积效果,极大地提高了金属箔的加工良品率。