发明公开
- 专利标题: 确定由图案化工艺形成的目标的所关注参数的值的方法
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申请号: CN202310536654.5申请日: 2019-04-10
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公开(公告)号: CN116560196A公开(公告)日: 2023-08-08
- 发明人: S·U·雷曼 , A·蔡亚马斯 , S·塔拉布林 , J·J·维塞拉尔 , M·V·梅德韦德耶瓦 , A·奥诺塞
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 北京市金杜律师事务所
- 代理商 闫昊
- 优先权: 18168041.4 20180418 EP
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; G03F9/00 ; G01N21/95 ; G01N21/956
摘要:
公开了确定所关注参数的值的方法。在一种布置中,导出来自照射目标的检测到的光瞳表示的对称分量和非对称分量。表征对称分量的第一度量和表征非对称分量的第二度量在所关注参数的值的参考范围上根据所关注参数非单调地变化。使用所导出的对称分量和所导出的非对称分量的组合来从所关注参数的多个候选值中标识正确值。
IPC分类: