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公开(公告)号：CN117043683A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202280019583.5
申请日：2022-02-18
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 公开了一种识别与对准标记中的不对称性相关的一个或多个主导性不对称模式的方法，该方法包括：使用多个对准条件，获得与至少一个衬底上的对准标记的测量结果相关的对准数据；识别对准数据的一个或多个主导性正交成分，一个或多个正交成分包括一数量的一起足以描述对准数据的方差的正交成分；以及如果不对称模式对应于与主导性正交成分之一最佳匹配的预期不对称模式形状，则将该不对称模式确定为主导性的。替代地，方法包括：对于每个已知的不对称模式，确定敏感度度量；以及如果敏感度度量高于敏感度阈值，则将不对称模式确定为主导性的。
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公开(公告)号：CN110622068A
公开(公告)日：2019-12-27
申请号：CN201880024727.X
申请日：2018-03-15
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了用于测量在衬底上形成的多个结构的方法和设备。在一种布置中，方法包括从第一测量过程获取数据。第一测量过程包括单独地测量多个结构中的每个结构以测量结构的第一特性。第二测量过程被用于测量多个结构中的每个结构的第二特性。第二测量过程包括利用具有辐射特性的辐射照射每个结构，辐射特性是使用针对该结构所测量的第一特性针对该结构单独地被选择的。
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公开(公告)号：CN114868084A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202080087952.5
申请日：2020-12-03
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： P·A·J·廷纳曼斯 , I·M·P·阿蒂斯 , K·巴塔查里亚 , R·布林克霍夫 , L·J·卡尔塞迈耶尔 , S·C·J·A·凯吉 , H·V·考克 , S·G·J·马西森 , H·J·L·梅根斯 , S·U·雷曼
摘要： 披露了一种涉及测量衬底上的结构的量测方法，所述结构经受一个或更多个不对称偏差。所述方法包括：获得与不对称偏差相关的至少一个强度不对称性值，其中至少一个强度不对称性值包括与由所述结构衍射的辐射的至少两个衍射阶的各自的强度或幅度之间的差异或不平衡性相关的指标；基于所述至少一个强度不对称性值确定与所述一个或更多个不对称偏差相对应的至少一个相位偏移值；以及根据所述一个或更多个相位偏移确定针对所述一个或更多个不对称偏差的一个或更多个测量校正。
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公开(公告)号：CN116560196A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310536654.5
申请日：2019-04-10
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , G01N21/95 , G01N21/956
摘要： 公开了确定所关注参数的值的方法。在一种布置中，导出来自照射目标的检测到的光瞳表示的对称分量和非对称分量。表征对称分量的第一度量和表征非对称分量的第二度量在所关注参数的值的参考范围上根据所关注参数非单调地变化。使用所导出的对称分量和所导出的非对称分量的组合来从所关注参数的多个候选值中标识正确值。
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公开(公告)号：CN111989620B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN201980026801.6
申请日：2019-04-10
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了确定所关注参数的值的方法。在一种布置中，导出来自照射目标的检测到的光瞳表示的对称分量和非对称分量。表征对称分量的第一度量和表征非对称分量的第二度量在所关注参数的值的参考范围上根据所关注参数非单调地变化。使用所导出的对称分量和所导出的非对称分量的组合来从所关注参数的多个候选值中标识正确值。
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公开(公告)号：CN115777084A
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN202180048651.6
申请日：2021-05-27
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： S·G·J·马西森 , P·A·J·蒂内曼斯 , A·J·登博夫 , K·巴塔查里亚 , S·U·雷曼
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开一种改进感兴趣参数的测量的方法。方法包括：获得量测数据，量测数据包括与衬底上的一个或多个目标相关的感兴趣参数的多个测量值，每个测量值与所述一个或多个目标中的目标和测量目标的测量条件的不同测量组合，以及与一个或多个目标的不对称性相关的不对称性度量数据相关。基于测量组合中感兴趣参数存在公共真实值的假设，确定测量组合中的每个测量组合使感兴趣参数的真实值与不对称性度量数据相关的各自关系。使用这些关系来改进感兴趣参数的测量。
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公开(公告)号：CN110622068B
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN201880024727.X
申请日：2018-03-15
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了用于测量在衬底上形成的多个结构的方法和设备。在一种布置中，方法包括从第一测量过程获取数据。第一测量过程包括单独地测量多个结构中的每个结构以测量结构的第一特性。第二测量过程被用于测量多个结构中的每个结构的第二特性。第二测量过程包括利用具有辐射特性的辐射照射每个结构，辐射特性是使用针对该结构所测量的第一特性针对该结构单独地被选择的。
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公开(公告)号：CN111989620A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN201980026801.6
申请日：2019-04-10
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了确定所关注参数的值的方法。在一种布置中，导出来自照射目标的检测到的光瞳表示的对称分量和非对称分量。表征对称分量的第一度量和表征非对称分量的第二度量在所关注参数的值的参考范围上根据所关注参数非单调地变化。使用所导出的对称分量和所导出的非对称分量的组合来从所关注参数的多个候选值中标识正确值。
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