发明公开
- 专利标题: 一种奈玛特韦、利托那韦复方片及其制备方法
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申请号: CN202310935160.4申请日: 2023-07-28
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公开(公告)号: CN116832004A公开(公告)日: 2023-10-03
- 发明人: 陈小峰 , 刘安友 , 何麓璐 , 夏玉明 , 田磊 , 王哲 , 王志邦 , 廖结海
- 申请人: 安徽贝克生物制药有限公司 , 安徽贝克制药股份有限公司
- 申请人地址: 安徽省合肥市高新技术开发区红枫路30号;
- 专利权人: 安徽贝克生物制药有限公司,安徽贝克制药股份有限公司
- 当前专利权人: 安徽贝克生物制药有限公司,安徽贝克制药股份有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市高新技术开发区红枫路30号;
- 代理机构: 北京市中联创和知识产权代理有限公司
- 代理商 姚永锋; 王超
- 主分类号: A61K9/36
- IPC分类号: A61K9/36 ; A61K9/24 ; A61K38/05 ; A61K47/18 ; A61P31/14 ; A61K31/427
摘要:
本发明提供了一种奈玛特韦、利托那韦复方片及其制备方法,所述奈玛特韦、利托那韦复方片由利托那韦层和奈玛特韦层对应的物料进行双层压片制得,所述奈玛特韦层由下列原料组成:奈玛特韦280‑320份、复合分散剂200‑250份、填充剂60‑100份、崩解剂20‑50份、粘合剂10‑25份、润滑剂2‑3份组成,所述利托那韦层由利托那韦90‑110份、填充剂30‑60份、包衣材料6‑10份、填充剂40‑100份、润滑剂3‑5份、粘合剂200‑300份组成。本发明所述奈玛特韦、利托那韦复方片的初始溶出度波动小,制剂起效时间及药效稳定;同时辅料对活性成分的吸附少,主药回收率高、药效佳且具有良好的稳定性。