发明公开
- 专利标题: 谐振器及其制备方法、外延膜转移方法和滤波器
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申请号: CN202311044502.X申请日: 2023-08-16
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公开(公告)号: CN117118387A公开(公告)日: 2023-11-24
- 发明人: 林炳辉 , 蔡耀 , 王雅馨 , 邹杨 , 高超 , 孙博文 , 孙成亮
- 申请人: 武汉敏声新技术有限公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市东湖新技术开发区花城大道9号武汉软件新城三期D7栋4层01号
- 专利权人: 武汉敏声新技术有限公司
- 当前专利权人: 武汉敏声新技术有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市东湖新技术开发区花城大道9号武汉软件新城三期D7栋4层01号
- 代理机构: 深圳市威世博知识产权代理事务所
- 代理商 郭晓晓
- 主分类号: H03H9/17
- IPC分类号: H03H9/17 ; H03H9/02 ; H03H9/05 ; H03H3/02
摘要:
本申请公开了一种谐振器及其制备方法、外延膜转移方法和滤波器。其中,谐振器包括:支撑衬底、第一键合层、第二键合层,单晶压电薄膜、底电极和顶电极;支撑衬底具有一凹槽,凹槽开设在第一表面,并包括深度不同的多个子凹槽;第一键合层设置于凹槽内;第二键合层设置于第一键合层远离支撑衬底的一侧,与支撑衬底和第一键合层键合;单晶压电薄膜设置于第二键合层远离第一键合层的一侧;底电极设置在单晶压电薄膜靠近第二键合层的一侧;顶电极设置在单晶压电薄膜远离第二键合层的一侧。通过上述方式,第一键合层与支撑衬底的交界面可以给泄露的声波能量提供多重反射,改善声波能量自谐振区向非谐振区的泄漏情况,提高谐振器性能。
公开/授权文献
- CN117118387B 谐振器及其制备方法、外延膜转移方法和滤波器 公开/授权日:2024-07-05
IPC分类: