发明公开
- 专利标题: 一种化学机械抛光的在线监测装置
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申请号: CN202311239658.3申请日: 2023-09-22
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公开(公告)号: CN117182761A公开(公告)日: 2023-12-08
- 发明人: 杨哲 , 周远鹏 , 朱政挺 , 喻康
- 申请人: 杭州众硅电子科技有限公司
- 申请人地址: 浙江省杭州市临安区青山湖街道创业街88号1幢一层
- 专利权人: 杭州众硅电子科技有限公司
- 当前专利权人: 杭州众硅电子科技有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市临安区青山湖街道创业街88号1幢一层
- 代理机构: 杭州凯知专利代理事务所
- 代理商 邵志
- 优先权: 202211239231.9 2022.10.11 CN
- 主分类号: B24B37/013
- IPC分类号: B24B37/013 ; B24B37/00 ; B24B49/12
摘要:
本发明公开了一种化学机械抛光的在线监测装置,设于抛光盘内,可随抛光盘转动,其包括光源;光学镜组,用于接收光源发出的光束,产生准直光束;反射单元,用于接收准直光束并将其反射形成入射光路;检测探头,设于抛光垫的通光窗口下方,其包括石英导光管和单芯光纤,石英导光管用于接收入射光路,并将其从检测探头靠近晶圆的一端出射,单芯光纤用于接收经过晶圆表面反射的出射光路;探测器,与单芯光纤连接,用于接收出射光路,以获取对应的光谱信息,确定晶圆抛光的终点。本发明从光源到检测探头的光源光路采用自由空间传播,从检测探头到探测器的信号光路采用光纤传播,两种光束的传播方式依靠检测探头的设计得以良好过渡,实现高精度检测。