公开(公告)号：CN117182761A

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202311239658.3

申请日：2023-09-22

申请人： 杭州众硅电子科技有限公司

发明人： 杨哲 ,  周远鹏 ,  朱政挺 ,  喻康

IPC分类号： B24B37/013 ,  B24B37/00 ,  B24B49/12

摘要： 本发明公开了一种化学机械抛光的在线监测装置，设于抛光盘内，可随抛光盘转动，其包括光源；光学镜组，用于接收光源发出的光束，产生准直光束；反射单元，用于接收准直光束并将其反射形成入射光路；检测探头，设于抛光垫的通光窗口下方，其包括石英导光管和单芯光纤，石英导光管用于接收入射光路，并将其从检测探头靠近晶圆的一端出射，单芯光纤用于接收经过晶圆表面反射的出射光路；探测器，与单芯光纤连接，用于接收出射光路，以获取对应的光谱信息，确定晶圆抛光的终点。本发明从光源到检测探头的光源光路采用自由空间传播，从检测探头到探测器的信号光路采用光纤传播，两种光束的传播方式依靠检测探头的设计得以良好过渡，实现高精度检测。

公开(公告)号：CN220313042U

公开(公告)日：2024-01-09

申请号：CN202321603922.2

申请日：2023-06-21

申请人： 杭州众硅电子科技有限公司

发明人： 张佳林 ,  杨渊思 ,  喻康

IPC分类号： B24B53/017 ,  B24B55/06 ,  B24B37/20

摘要： 本实用新型公开了一种CMP抛光垫再加工装置，包括：主体；切割单元，设于主体底部，带有切割刀；流体喷射单元，至少包括设于所述切割单元两侧的缓冲体，及用于向缓冲体内输送流体的流体源，所述缓冲体由弹性材质制成，且开设有输出孔。本实用新型在切割单元的两侧设置缓冲体，利用流体推力实现切割刀的上下或/横向移动，调节快捷，调节范围广，结构简单，体积小，重量轻，维护便利；流体驱动可以杜绝湿环境大量用电的危险；缓冲体还可以在装置发生故障时起到缓冲作用，保护抛光垫不被砸伤。

公开(公告)号：CN220902928U

公开(公告)日：2024-05-07

申请号：CN202322600970.2

申请日：2023-09-22

申请人： 杭州众硅电子科技有限公司

发明人： 杨哲 ,  周远鹏 ,  朱政挺 ,  喻康

IPC分类号： B24B37/013 ,  B24B37/00 ,  B24B49/12

摘要： 本实用新型公开了一种化学机械抛光的在线监测装置，设于抛光盘内，可随抛光盘转动，包括光源；光学镜组，用于接收光源发出的光束，产生准直光束；反射单元，用于接收准直光束并将其反射形成入射光路；检测探头，设于抛光垫通光窗口下方，包括石英导光管和单芯光纤，石英导光管用于接收入射光路，并将其从检测探头靠近晶圆的一端出射，单芯光纤用于接收经过晶圆表面反射的出射光路；探测器，与单芯光纤连接，用于接收出射光路，以获取对应的光谱信息，确定晶圆抛光的终点。本实用新型从光源到检测探头的光源光路采用自由空间传播，从检测探头到探测器的信号光路采用光纤传播，两种光束的传播方式依靠检测探头的设计得以良好过渡，实现高精度检测。