Invention Publication
- Patent Title: 一种钕掺杂单晶金刚石及其制备方法
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Application No.: CN202311366807.2Application Date: 2023-10-20
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Publication No.: CN117418308APublication Date: 2024-01-19
- Inventor: 王宏兴 , 李奇 , 张卓辉 , 张朝阳 , 张倩文 , 王艳丰
- Applicant: 西安交通大学
- Applicant Address: 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号
- Assignee: 西安交通大学
- Current Assignee: 西安交通大学
- Current Assignee Address: 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号
- Agency: 西安维赛恩专利代理事务所
- Agent 李明全
- Main IPC: C30B25/00
- IPC: C30B25/00 ; C30B29/04

Abstract:
本发明公开了一种钕掺杂单晶金刚石及其制备方法,依次使用混合酸溶液和混合碱溶液对金刚石表面进行清洗,得到金刚石(001)面;将清洗后的金刚石置入MPCVD设备中,通入氢气、甲烷和氮气,保持腔内生长温度为1000~1100℃,在金刚石(001)面生长表面具有台阶状的本征层;向腔体内通入含有气态钕源、甲烷和氢气,保持腔压温度为950~1050℃,在本征层上生长钕掺杂层;本发明通过在金刚石衬底表面生长本征层,并通过在本征层表面的台阶状凹陷内掺杂钕源,可以将钕源掺杂到单晶金刚石中,从而得到钕掺杂单晶金刚石,将其应用到激光材料中,可以提升激光材料的热负载能力,从而提升激光功率。
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