发明公开
- 专利标题: 一种气相化学还原制备钽粉的装置及方法
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申请号: CN202311412435.2申请日: 2023-10-27
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公开(公告)号: CN117448780A公开(公告)日: 2024-01-26
- 发明人: 王瑞芳 , 车玉思 , 韩正豪 , 邢奕辰 , 张超 , 何季麟
- 申请人: 郑州大学 , 中原关键金属实验室
- 申请人地址: 河南省郑州市高新技术开发区科学大道100号
- 专利权人: 郑州大学,中原关键金属实验室
- 当前专利权人: 郑州大学,中原关键金属实验室
- 当前专利权人地址: 河南省郑州市高新技术开发区科学大道100号
- 代理机构: 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司
- 代理商 王文雅
- 主分类号: C23C16/44
- IPC分类号: C23C16/44 ; B22F9/28
摘要:
本发明提供了一种气相化学还原制备钽粉的装置及方法,涉及钽粉加工技术领域,解决了现有技术中存在的钽粉粗大、粒度不均的的技术问题。该气相化学还原制备钽粉的装置包括反应区和至少两个原料区,反应区和至少两个原料区上均设置有控温机构,至少两个原料区均与反应区相连通;在至少两个原料区上均设置有供气机构,供气机构用以向至少两个原料区输送载流气以将至少两个原料区内的原料送入反应区。在两个原料区内分别放置氯化钽和金属还原剂,由控温机构加热至气态,经供气机构输送载流气将气态的氯化钽和气态的金属还原剂输送至反应区反应生成钽粉。该气相化学还原工艺具有流程短、环保的优点,副产物易于去除,制备的钽粉粒度细。