含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物

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CN117460995A 含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物审中-实审

摘要：

一种含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有：[A]成分：聚硅氧烷、和[C]成分：溶剂。所述聚硅氧烷包含源自具有碘代烷基的水解性硅烷(A)的结构单元。

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IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/004	.感光材料（G03F7/12，G03F7/14优先）
G03F7/09	..以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层（印刷版的基片层一般入B41N）
G03F7/11	...具有覆盖层或中间层的，例如，（使感光乳剂固着于片基的）胶层