本发明涉及半导体技术领域，提供一种基于异质结二维电子气的双栅LDMOS器件及制造方法。所述器件包括：衬底、漂移区、体区、源区及漏区，还包括：超晶格薄层、栅氧化层、正栅极及背栅极。超晶格薄层形成于衬底的上表面，漂移区和体区形成于超晶格薄层的表面，源区与体区相接并延伸至衬底与超晶格薄层的一端相接，漏区与漂移区相接并延伸至衬底与超晶格薄层的另一端相接。源区、体区、栅氧化层、正栅极及漏区组成MOSFET结构，使体区表面和漂移区表面形成第一导电沟道；体区与超晶格薄层、衬底及背栅极组成HEMT结构，超晶格薄层的异质结界面形成二维电子气作为第二导电沟道。本发明通过双导电沟道，降低器件的比导通电阻。