用于阻止蚀刻停止的金属氧化物基光致抗蚀剂的循环显影

发明公开

CN118159914A 用于阻止蚀刻停止的金属氧化物基光致抗蚀剂的循环显影审中-实审

摘要：

提供了用于在EUV暴露后显影基于光图案化的金属或金属氧化物的薄膜光致抗蚀剂，以去除非挥发性物质并阻止蚀刻停止的处理。用蚀刻剂和氧化剂交替处理的重复循环；或用蚀刻剂处理然后用清洗剂处理是去除光致抗蚀剂中不需要的未暴露部分的有效技术。

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IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/26	.感光材料的处理及其设备（G03F7/12至G03F7/24优先）
G03F7/36	..G03F7/30至G03F7/34组中不包括的影像去除，例如，用气流、用等离子体去除影像