发明公开
- 专利标题: 一种纳米网格石墨烯可饱和吸收体及其制备方法
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申请号: CN202410171216.8申请日: 2024-02-06
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公开(公告)号: CN118213845A公开(公告)日: 2024-06-18
- 发明人: 贾宪生 , 张子旸 , 陈红梅 , 黄彦程 , 蒋成
- 申请人: 青岛翼晨镭硕科技有限公司
- 申请人地址: 山东省青岛市胶州市上合示范区闽江路60号
- 专利权人: 青岛翼晨镭硕科技有限公司
- 当前专利权人: 青岛翼晨镭硕科技有限公司
- 当前专利权人地址: 山东省青岛市胶州市上合示范区闽江路60号
- 代理机构: 青岛申达知识产权代理有限公司
- 代理商 蒋遥明
- 主分类号: H01S3/1118
- IPC分类号: H01S3/1118 ; C23C14/30 ; C23C14/00 ; C23C14/14 ; C23C14/58 ; C23C16/40 ; C23C16/50 ; C01B32/194 ; C01B33/18
摘要:
一种纳米网格石墨烯可饱和吸收体,所述纳米网格石墨烯可饱和吸收体依次包括砷化镓衬底层、布拉格反射层、量子阱吸收层、SiO2纳米柱层、石墨烯纳米网格层;所述SiO2纳米柱层的厚度为100‑300nm;石墨烯纳米网格层使用单层石墨烯;所述石墨烯纳米网格层和SiO2纳米柱层为相同的点阵结构和反点阵结构。所述纳米网格石墨烯可饱和吸收体可以控制石墨烯带隙,氧化硅纳米柱可以限制载流子逃逸,形成局域等离子增强效应,协同作用增强可饱和吸收效果。所述制备方法可重复性好,且在工艺流程中不需要电子束曝光等高精度纳米级光刻,成本低,效率高。