发明公开
- 专利标题： 在电介质中的高深宽比特征的等离子体蚀刻化学过程
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申请号： CN202410561073.1申请日： 2019-03-12
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公开(公告)号： CN118588549A公开(公告)日： 2024-09-03
- 发明人: 克伦·J·卡纳里克 , 萨曼莎·西亚姆-华·坦 , 潘阳 , 杰弗里·马克斯
- 申请人： 朗姆研究公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海胜康律师事务所
- 代理商 樊英如; 张华
- 优先权： 62/644,095 20180316 US
- 主分类号： H01L21/3065
- IPC分类号： H01L21/3065 ; H01L21/311 ; H01L21/308 ; H01L21/768 ; H01L21/67
摘要：
提供了一种用于在蚀刻室中在图案化掩模下方蚀刻堆叠件中的特征的方法。用冷却剂温度低于‑20℃的冷却剂冷却堆叠件。使蚀刻气体流入蚀刻室。由蚀刻气体产生等离子体。相对于图案化的掩模将特征选择性地蚀刻到堆叠件中。
IPC分类:
