Invention Publication
- Patent Title: 一种用于减少激光烧蚀再沉积物的真空腔室中受控气体膜装置
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Application No.: CN202410504468.8Application Date: 2024-04-25
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Publication No.: CN118841301APublication Date: 2024-10-25
- Inventor: J·维尔科夫斯基 , R·T·J·P·格尔茨 , M·梅利查尔
- Applicant: FEI 公司
- Applicant Address: 美国俄勒冈州
- Assignee: FEI 公司
- Current Assignee: FEI 公司
- Current Assignee Address: 美国俄勒冈州
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 黄涛; 吕传奇
- Priority: 18/509205 20231114 US 18/509205 20231114 US
- Main IPC: H01J37/28
- IPC: H01J37/28 ; H01J37/18 ; H01J37/16 ; H01J37/02 ; G01N23/2251
Abstract:
与激光烧蚀或离子束铣削相关联的表面污染和碎屑沉积是通过将被引导到工件的流与合适的真空压力下的抽吸结合来减少的。通常对真空压力进行选择，使得任何污染物或碎屑具有相对短的平均自由程，以避免在真空腔室中的远处表面上积聚。闸板可用于在处理期间屏蔽带电粒子束光学柱的部分。在与相对短的MFP相关联的真空压力下的处理可与在与相对长的MFP相关联的真空压力下的处理结合，以提供粗略和精细的铣削或烧蚀。
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